[发明专利]基板结构及其制法在审
申请号: | 201810217396.3 | 申请日: | 2018-03-16 |
公开(公告)号: | CN110233143A | 公开(公告)日: | 2019-09-13 |
发明(设计)人: | 陈宜兴;吴家兴;吴柏毅 | 申请(专利权)人: | 矽品精密工业股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/498 | 分类号: | H01L23/498;H01L21/48 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 中国台湾台中*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 线路层 基板结构 制法 绝缘层 隔绝水气 基板本体 接合性 上表面 阻障层 脱层 剥落 | ||
一种基板结构及其制法,其于基板本体的线路层的上表面全面形成一用以隔绝水气的阻障层,避免该线路层氧化,故该线路层与其所结合的绝缘层之间能保持应有的接合性,避免发生脱层或剥落问题。
技术领域
本发明有关一种基板结构,尤指一种能提升可靠度基板结构及其制法。
背景技术
一般电子封装件的基板结构(如晶片、封装基板)为于电性接点上形成焊锡凸块,并经回焊(reflow)后会变成焊锡球,以供外接其它电子装置。
请参阅图1A至图1D,其为现有基板结构1的制法的剖面示意图。如图1A所示,于一具有至少一电性接点100的半导体基板10上依序形成一第一钝化层11及一第二钝化层12,再形成一线路层13于该第二钝化层12上,并使该线路层13电性连接该电性接点100。接着,如图1B所示,形成一防焊层14于该线路层13与该第二钝化层12上,且该防焊层14形成有至少一外露该线路层13部分表面的开口140。然后,如图1C所示,形成一凸块底下金属层(Under Bump Metallurgy,简称UBM)15于该开口140中的线路层13上。之后,如图1D所示,形成一焊锡凸块16于该凸块底下金属层15上以电性连接该线路层13,以供结合半导体元件、封装基板或电路板等电子装置。
然而,前述现有基板结构1中,因该电性接点100的数量需求增加及该线路层13的布线密集度提升,使同质保护层(该第一钝化层11与第二钝化层12)之间的接触面减少,而该第二钝化层12与异质的该线路层13(铜材)之间的接触面增加,导致该线路层13与该第二钝化层12之间容易发生脱层(Delamination)现象。具体地,该脱层现象的原因为来自外界大气中的水气或材料本身释气(out gassing)所生成的氧化铜,致使该线路层13与该第二钝化层12之间因接合性不佳而产生剥落(peeling)问题,进而影响整体封装的可靠度。
因此,如何克服上述现有技术的问题,实已成目前亟欲解决的问题。
发明内容
鉴于上述现有技术的种种缺失,本发明提供一种基板结构及其制法,以避免发生脱层或剥落问题。
本发明的基板结构,包括:基板本体,其具有至少一电性接点;绝缘层,其形成于该基板本体上,并令该电性接点外露出该绝缘层;线路层,其全面形成于该绝缘层上表面且电性连接该电性接点;以及阻障层,其形成于该线路层上,其中,该阻障层的材料包含镍、钛、钒、钨或钽,如镍(Ni)、钛(Ti)、镍钒(NiV)、钛钨(TiW)、氮化钽(TaN),最佳为镍。
本发明还提供一种基板结构的制法,包括:提供一具有至少一电性接点的基板本体,并于该基板本体上形成绝缘层,且令该电性接点外露出该绝缘层;形成线路层于该绝缘层上,以令该线路层电性连接该电性接点;以及形成一全面覆盖该线路层上表面的阻障层,其中,该阻障层的材料包含镍、钛、钒、钨或钽,如镍(Ni)、钛(Ti)、镍钒(NiV)、钛钨(TiW)、氮化钽(TaN),最佳为镍。
前述的基板结构及其制法中,该阻障层为镍层。
前述的基板结构及其制法中,还包括形成绝缘保护层于该阻障层与该绝缘层上。
前述的基板结构及其制法中,还包括形成导电元件于该阻障层上。
由上可知,本发明的基板结构及其制法,主要借由该线路层上表面全面覆盖有阻障层,以隔绝来自外界大气中的水气或材料本身释气,因而能避免该线路层与其结合的绝缘层之间形成氧化层,进而避免线路层与绝缘层发生脱层或剥离问题。
附图说明
图1A至图1D为现有基板结构的制法的剖面示意图;以及
图2A至图2D为本发明的基板结构的制法的剖面示意图。
符号说明:
1,2 基板结构
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