[发明专利]大型膜用框体及大型膜在审
| 申请号： | 201810245056.1 | 申请日： | 2011-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN108490734A | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 北岛慎太郎;谷典子;松荣宏治;山中幸也;岩仓诚二 | 申请（专利权）人： | 旭化成株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 框体 开口部 框部 空气路径 接合部 表膜 支承 轴向 覆盖 | ||
1.一种大型膜用框体，其具有俯视矩形状的开口部，其特征在于，
框部形成所述开口部的周缘，该框部沿着自身轴向具有3处以上的接合部。
2.根据权利要求1所述的大型膜用框体，其特征在于，
在所述大型膜用框体的角部具有所述接合部。
3.根据权利要求1或2所述的大型膜用框体，其特征在于，
所述框部由选自铝及铝合金的至少1种金属构件构成，在所述大型膜用框体的轴向截面的XRD测定结果中，(111)面的峰值强度/(200)面的峰值强度的比率为1.0以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的大型膜用框体，其特征在于，
在所述大型膜用框体的轴向截面的XRD测定结果中，(111)面的峰值强度/(200)面的峰值强度的比率为0.8以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的大型膜用框体，其特征在于，
在所述接合部，被接合的一方的构件的端部至少设有一个朝向被接合的另一方的构件突出的凸部，在所述另一方的构件的端部设有供所述凸部嵌合的凹部；
通过将所述凸部嵌合于所述凹部，所述一方的构件的端部接合于所述另一方的构件的端部。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的大型膜用框体，其特征在于，
所述开口部的面积为1000cm2～35000cm2。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的大型膜用框体，其特征在于，
所述接合部的接合强度为10kgf以上。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的大型膜用框体，其特征在于，
所述接合部通过所接合的所述构件的端部相互间利用化学反应型的粘接剂接合而成。
9.根据权利要求8所述的大型膜用框体，其特征在于，
所述化学反应型的粘接剂包含选自丙烯酸类粘接剂及环氧类粘接剂的至少1种粘接剂。
10.一种大型膜，其中，
该大型膜包括权利要求1～9中任一项所述的大型膜用框体、及覆盖所述开口部并被该大型膜用框体展开支撑的大型表膜。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
