[发明专利]大型膜用框体及大型膜

说明书

本发明提供一种大型膜用框体。该大型膜用框体的操作性良好，而且使用时能够抑制产生空气路径。该大型膜用框体以覆盖开口部的方式展开支承大型表膜，其中，形成开口部的周缘的框部沿着框部的轴向具有3处以上接合部。

本申请是申请日为2011年3月10日、申请号为201180011824.3、发明名称为大型膜用框体及大型膜的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种大型膜用框体，其用于防止异物附着于在制造例如IC(Integrated Circuit：集成电路)、LSI(Large Scale Integration：大型集成电路)、TFT型LCD(Thin Film Transistor，Liquid Crystal Display：薄膜晶体管液晶显示器)等半导体装置时的光刻工序中使用的光掩模、标线片(レティクル)上。

背景技术

以往，在制造半导体电路图案等的过程中，在光掩模、标线片的两面侧配置被称为膜的防尘部件，防止异物附着于光掩模、标线片上。

作为膜的一般构造，能够列举出在金属、陶瓷或聚合物制的框体的一侧粘贴聚合物或玻璃等透明的薄膜，在其相反侧设有用于粘贴在掩模上的粘合剂层(粘合材料)的构造。例如，膜在具有与光掩模、标线片的形状相吻合的形状的厚度为几毫米左右的框体的一个缘面上展开地粘接厚度为10μm以下的由硝化纤维素或纤维素衍生物等透明的高分子膜构成的表膜，且在膜用框体的另一个缘面借助粘合材料粘合在光掩模、标线片的表面上。

在异物附着于光掩模、标线片的表面的情况下，该异物在形成于半导体片的光致抗蚀剂上成像而导致电路图案缺陷，但在将膜配置在光掩模、标线片的至少图案面的情况下，由于附着于膜表面的异物的聚焦位置偏移，因此，不会在形成于半导体片的光致抗蚀剂上成像，从而不会使电路图案产生缺陷。

另外，近年来，鉴于各种多媒体的普及，期望一种能够应用于在能够进行高画质、高精细显示的大型彩色TFTLCD的光刻工序中使用的大型光掩模的大型膜。

例如，在专利文献1中提出了一种能够应用于大型光掩模的大型膜。

另外，在专利文献2中也提出了一种为了应对大型膜用框体的挠曲、变形，而利用了框体和弹性模量大于框体的加强材料的框体。

另外，在专利文献3中也提出了利用将弹性模量不同的两种以上材料在框体的厚度方向上接合而成的框体，作为用于在需要高析像度的曝光过程中使用的200nm以下的紫外光曝光、且不影响掩模的平坦性精度的膜用框体。

另外，在专利文献4中公开了一种液晶显示器的屏蔽用框架作为其它领域的接合框体。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2001－109135号公报

专利文献2：日本特开2006－284927号公报

专利文献3：日本特开2009－063740号公报

专利文献4：日本特开2005－141170号公报

发明内容

发明所要解决的课题

但是，膜用框体是通过冲裁一块片状母材来制作的，大多是没有接合部的一体型的膜用框体。这是基于确保膜的平坦性的观点等。但是，根据母材的平坦性不同，也存在无法用于制作膜用框体的母材。另外，虽然存在具有平坦性的母材，但是膜用框体越大型化，越不容易实现膜用框体的平坦性的精度。因此，制造工序也花费时间，因此会导致生产率下降，也会导致膜用框体的高成本。

另外，伴随着大型化，鉴于膜用框体本身的自重、表膜的张力、由温度变化引起的应力等各种主要原因，有可能在膜用框体中发生挠曲、变形。因此，通常使用通过冲裁刚性较高的一块片状母材而制作的膜用框体。