[发明专利]一种硅片测试台

权利要求书

1.一种硅片测试台，其特征在于，所述硅片测试台包括工作台、校准器及传送器；所述传送器用于拾取待检测硅片并将拾取到的待检测硅片传送至所述工作台上，所述校准器用于放射X射线至所述待检测硅片表面，并根据所述待检测硅片表面反射出的X射线与所述待检测硅片的夹角对所述工作台上待检测硅片的位置进行调整，所述工作台用于检测待检测硅片；所述工作台包括台体、升降杆和固定框，所述台体用于承载所述待检测硅片，所述升降杆和固定框安装在所述台体上，所述升降杆位于所述固定框内，所述升降杆能够相对于所述固定框上下移动，其中，所述固定框中设置有三个所述升降杆，所述升降杆具有第一端和第二端，所述升降杆的第一端嵌入在所述台体中，所述升降杆与所述台体上表面垂直，所述升降杆为可伸缩式，当所述升降杆升起后，所述升降杆的第二端高于所述固定框，所述升降杆降下后，所述升降杆的第二端与所述台体齐平。

2.如权利要求1所述的硅片测试台，其特征在于，所述固定框中的三个所述升降杆呈三角形设置。

3.如权利要求1所述的硅片测试台，其特征在于，所述校准器包括调整结构，所述调整结构用于调整所述待检测硅片的位置。

4.如权利要求3所述的硅片测试台，其特征在于，所述校准器还包括检测结构，所述检测结构用于检测所述待检测硅片的位置。

5.如权利要求1所述的硅片测试台，其特征在于，所述传送器包括底座、第一传送臂和第二传送臂；所述第一传送臂活动安装在所述底座上；所述第二传送臂活动安装在所述第一传送臂上。

6.如权利要求5所述的硅片测试台，其特征在于，所述第一传送臂具有第一端和第二端，所述第一传送臂的第一端旋转连接在所述底座上，所述第一传送臂的第二端与所述第二传送臂旋转连接。

7.如权利要求6所述的硅片测试台，其特征在于，所述第二传送臂具有第一端和第二端，所述第二传送臂的第一端与所述第一传送臂的第二端旋转连接，所述第二传送臂第一端叠在所述第一传送臂的第二端上；所述第二传送臂的第二端设置有凹口。

8.如权利要求7所述的硅片测试台，其特征在于，所述第二传送臂的凹口处设置有固定设备。

9.如权利要求7所述的硅片测试台，其特征在于，所述第二传送臂上设置有真空吸盘。