[发明专利]一种提高光电跟踪系统中脱靶量延时测量精度的方法有效

专利信息
申请号: 201810253349.4 申请日: 2018-03-26
公开(公告)号: CN108871374B 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 韩俊锋;徐思旺;井峰;阮萍;谢小平 申请(专利权)人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
主分类号: G01C25/00 分类号: G01C25/00;G01M11/00
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 胡乐
地址: 710119 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 光电 跟踪 系统 脱靶 延时 测量 精度 方法
【权利要求书】:

1.一种提高光电跟踪系统中脱靶量延时测量精度的方法,其特征在于,包括以下环节:

1)将模拟目标置于光电跟踪系统的视场中,调节其位置使光电跟踪系统的相机能清晰成像,然后将模拟目标在该位置固定;

2)控制光电跟踪系统带动其光学镜头及相机做大幅值低频率的正弦运动,正弦运动的周期Tz大于预估的脱靶量延时值,正弦运动的幅值应保证整个测量过程中模拟目标不出视场;由光电跟踪系统的电子学单元实时记录角度和脱靶量数据,并采用运动相移法测量脱靶量延时,记为Tc;

3)控制光电跟踪系统带动其光学镜头及相机做小幅值高频率的正弦运动,正弦运动的周期小于Tc,记为Ts,正弦运动的幅值不大于环节2)中的幅值;由光电跟踪系统的电子学单元实时记录角度和脱靶量数据,并采用运动相移法测量脱靶量延时,记为Tf;所述控制光电跟踪系统带动其光学镜头及相机做小幅值高频率的正弦运动,具体是根据跟踪机构的运动能力,优先考虑使正弦运动的周期Ts尽可能小,再使运动幅值尽可能大,以使测量数据具有高的位置变化率;

4)综合得到高精度延时为:Tf+Ts×MOD(Tc,Ts),其中MOD(Tc,Ts)表示Tc/Ts的模值。

2.根据权利要求1所述的提高光电跟踪系统中脱靶量延时测量精度的方法,其特征在于:环节1)使用平行光管模拟目标。

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