[发明专利]一种应用于ZnO MOCVD设备的自动化工艺生产线在审
申请号: | 201810258106.X | 申请日: | 2018-03-27 |
公开(公告)号: | CN108624862A | 公开(公告)日: | 2018-10-09 |
发明(设计)人: | 王钢;李健;费泽元;赖远佳 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C23C16/458 |
代理公司: | 广州圣理华知识产权代理有限公司 44302 | 代理人: | 李唐明;顿海舟 |
地址: | 510260 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 石墨盘 外延片 分割器 视觉定位系统 计时器 自动化工艺 推送系统 上下料 传感器 自动上下料 固定石墨 视觉定位 视觉系统 运输效率 工作台 盘推 机器人 成型 应用 生长 停留 检测 退出 记录 | ||
1.一种应用于ZnO MOCVD设备的自动化工艺生产线,其特征在于:包括MOCVD换料仓,所述MOCVD换料仓内设有石墨盘,所述MOCVD换料仓一侧设有窗口,所述石墨盘下方设有石墨盘分割器及推送系统,所述石墨盘分割器及推送系统用于定位石墨盘和固定石墨盘推送位置,所述MOCVD换料仓周围与所述窗口同侧的方向设有料盒换料工作台,所述料盒换料工作台上以气动锁紧料盒的方式设有气动件,所述料盒换料工作台的周围以将料盒中的外延片吸取并放置到石墨盘上的方式设有机器人,所述MOCVD换料仓上设有PLC控制系统,所述PLC控制系统用于控制所述机器人动作。
2.根据权利要求1所述的自动化工艺生产线,其特征在于:所述料盒换料工作台上设有外延视觉定位系统,所述外延视觉定位系统设在所述机器人与石墨盘之间的机器人移动路径上。
3.根据权利要求2所述的自动化工艺生产线,其特征在于:所述外延视觉定位系统包括外延传感器和外延计时器,所述外延传感器用于所述机器人将外延片吸取并放置在外延视觉定位系统上时,辨别出外延片缺口的位置,所述外延计时器用于记录所述外延片到达石墨盘停留的时间。
4.根据权利要求1或2所述的自动化工艺生产线,其特征在于:所述石墨盘周围的MOCVD换料仓内设有石墨盘视觉定位系统。
5.根据权利要求4所述的自动化工艺生产线,其特征在于:所述石墨盘视觉定位系统包括传感器和计时器,所述传感器用于检测生长完成的石墨盘退出,经过石墨盘视觉定位系统定位石墨盘的方向,所述计时器用于记录外延片到达石墨盘停留的时间。
6.根据权利要求1所述的自动化工艺生产线,其特征在于:所述机器人包括基座、移动部和控制部,所述移动部与控制部连接,所述移动部以使机器人在三维空间灵活运动的方式设在基座上,所述控制部以控制机器人完成上下料过程中复杂动作的方式与移动部连接。
7.根据权利要求6所述的自动化工艺生产线,其特征在于:所述移动部包括臂旋转、臂前后和臂上下,所述臂旋转转动连接基座,所述臂前后与所述臂旋转转动连接,所述臂上下设在所述臂前后上远离臂旋转的一端,且与所述臂前后转动连接。
8.根据权利要求7所述的自动化工艺生产线,其特征在于:所述控制部包括腕旋转、腕弯曲和腕扭转,所述腕旋转一端与所述臂上下连接,另一端与所述腕弯曲连接,所述腕扭转设在所述腕弯曲上远离腕旋转的一端。
9.根据权利要求1所述的自动化工艺生产线,其特征在于:所述料盒内设有若干外延片凹槽,用于放置外延片。
10.根据权利要求1所述的自动化工艺生产线的工作步骤,其特征在于:包括以下步骤,S1、人工将装有外延片的料盒放置在料盒换料工作台上,气动件将料盒锁紧;
S2、机器人将外延片吸取并放置在外延视觉定位系统上,辨别出缺口位置;
S3、机器人将经过辨别的外延片陆续放置到石墨盘上;
S4、石墨盘进入反应腔进行生长;
S5、生长完成石墨盘退出,经过石墨盘视觉定位系统定位石墨盘的方向;
S6、机器人吸取生长完成的外延片,并陆续放置到空的料盒上;
S7、人工将装满的料盒拿走进入下一道工序。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山大学,未经中山大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810258106.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:双面连续镀膜的真空蒸镀装置
- 下一篇:一种表面硬度增强涂层及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的