[发明专利]一种影青瓷陶瓷制品及其制造工艺

权利要求书

1.一种影青瓷日用陶瓷制品，包括坯体和施于坯体表面的釉层，其特征在于，所述坯体包括以下重量份的原料：高岭土20~30份、石英15~23份、膨润土15~20份、骨粉10~12份、助熔料8~15份、水镁石5~10份、绢云母5~10份，所述助熔料为重量比为1~5：1~10：1~3的烧滑石、硅灰石、氧化钠的混合物；所述釉层包括以下重量份的原料：高岭土15~20份、三硅酸镁10~15份、硅酸钠8~10份、珍珠岩3~5份、海泡石3~5份、氧化钠1~3份、氧化钾0~3份、氧化铁0.5~2份。

2.根据权利要求1所述的影青瓷日用陶瓷制品，其特征在于，所述坯体包括以下重量份的原料：高岭土25份、石英19份、膨润土17份、骨粉11份、助熔料11份、水镁石8份、绢云母7份，所述助熔料为重量比为1~5：1~10：1~3的烧滑石、硅灰石、氧化钠的混合物；所述釉层包括以下重量份的原料：高岭土18份、三硅酸镁12份、硅酸钠9份、珍珠岩4份、海泡石4份、氧化钠2份、氧化钾1份、氧化铁1份。

3.根据权利要求1或2所述的影青瓷日用陶瓷制品，其特征在于，助熔料为重量比为3：6：2的烧滑石、硅灰石、氧化钠的混合物。

4.一种制造权利要求1或2所述影青瓷日用陶瓷制品的工艺，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、按照重量比分别称取各原料，备用；

步骤2、将坯体原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨，其中，原料：球：水的重量比为1：0.5~3：2~4，球磨后得到粗泥，将坯体泥料置于温度为25~28℃、湿度为80%以上的环境中静置3天以上得到泥块，取泥块加水后磨细至过100目以上筛得到坯体泥料，调节坯体泥料的含水率为30~35%，然后定型得到粗坯体，将粗坯体晾干后进行利坯并雕刻花纹得到坯体；

步骤3、将釉层原料混合后以氧化铝球为球磨介质、以水作为助磨剂进行球磨，其中，原料：球：水的重量比为1：1~2：2~4，球磨后得到釉水，调节釉水的含水率为60~72%；

步骤4、采用步骤3中得到的釉水对步骤2中得到的坯体进行上釉，晾干后釉层厚度为0.1~1mm，之后将上釉后的坯体进行高温还原烧制后得到影青瓷日用陶瓷制品。

5.根据权利要求4所述的制造影青瓷日用陶瓷制品的工艺，其特征在于，所述步骤2，步骤3中进行球磨的时间为1~6小时，其中，所述步骤2中的球磨速率为180~360r/min，所述步骤3中的球磨速率为450~600r/min。

6.根据权利要求4所述的制造影青瓷日用陶瓷制品的工艺，其特征在于，将步骤2得到坯体在800~1050℃下烧制1~10小时后再采用步骤3中得到的釉水进行上釉。

7.根据权利要求4所述的制造影青瓷日用陶瓷制品的工艺，其特征在于，所述步骤4中进行高温还原烧制的具体工艺为：将上釉晾干后的坯体置于高温炉中，然后抽真空至压力为0.2～0.4MPa，接着填充还原性气体，最后进行高温烧制。

8.根据权利要求7所述的制造影青瓷日用陶瓷制品的工艺，其特征在于，所述还原性气体为一氧化碳、氢气、甲烷中的一种以上。

9.根据权利要求7所述的制造影青瓷日用陶瓷制品的工艺，其特征在于，所述步骤4中进行高温烧制的条件为1200~1300℃，烧制时间为0.5~10小时。