[发明专利]一种温度控制系统、光刻装置和温度控制方法在审
申请号: | 201810263871.0 | 申请日: | 2018-03-28 |
公开(公告)号: | CN110319614A | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 孟祥麒;郝保同 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | F25B9/04 | 分类号: | F25B9/04;F25B49/02;G03F7/20 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 冷量 温度控制系统 温控参数 温控对象 输出 光刻装置 冷气流量 热气流量 输出模块 冷热量 涡流管 温控检测模块 多级串联 供给模块 控制模块 温控介质 温控 检测 能源 | ||
本发明公开了一种温度控制系统、光刻装置和温度控制方法。其中,温度控制系统包括:温控介质供给模块,用于为冷热量输出模块提供温控气流;冷热量输出模块,包括多级串联的涡流管,用于向温控对象输出冷量和/或热量;温控检测模块,用于检测温控参数,所述温控参数至少包括输出的冷量对应的冷气流量及冷量温度和/或输出的热量对应的热气流量及热量温度,以及所述温控对象的温度;控制模块,用于根据所述温控参数,调节所述冷气流量及所述冷量温度和/或所述热气流量及所述热量温度,以使所述温控对象的温度达到目标温度。本发明增大了冷量或热量的输出,扩大了涡流管的温度控制范围,同时进行热量和冷量的快速输出,改善能源浪费的问题。
技术领域
本发明实施例涉及温控技术领域,尤其涉及一种温度控制系统、光刻装置和温度控制方法。
背景技术
涡流管制冷已经在现代工业中广泛应用。例如,在半导体制造生产线中,光刻机具有长时间处于运行状态的特点,而掩膜台的冷却也需要快速进行冷量输出,并持续稳定,同时需要具备体积小,重量轻的制冷系统,采用涡流管制冷的方式只需消耗厂务空气压缩机提供的压缩空气,即可快速实现对光刻机掩膜台的冷却,而且避开了蒸汽压缩式制冷等传统制冷系统充注制冷剂和制冷剂的消耗及污染问题,降低了成本,节约了能耗。
但目前涡流管的制冷方式单涡流管制冷,压缩空气使用量大,冷却效果不好,冷却速度及温度控制范围仍有待提高;只利用冷端产生的冷气流进行冷却,控制精度不高,同时涡流管热端产生的热气流未充分加以利用,造成了能源浪费。
发明内容
有鉴于此,本发明的目的是提出一种温度控制系统、光刻装置和温度控制方法,以增大冷量或热量的输出,扩大涡流管的温度控制范围,提高温度控制精度,实现热量和冷量的快速输出,改善能源浪费的问题。
为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:
第一方面,本发明实施例提供了一种温度控制系统,包括:
温控介质供给模块,用于为冷热量输出模块提供温控气流;
冷热量输出模块,包括多级串联的涡流管,用于向温控对象输出冷量和/或热量;
温控检测模块,用于检测温控参数,温控参数至少包括输出的冷量对应的冷气流量及冷量温度和/或输出的热量对应的热气流量及热量温度,以及温控对象的温度;
控制模块,用于根据温控参数,调节冷气流量及冷量温度和/或热气流量及热量温度,以使温控对象的温度达到目标温度。
第二方面,本发明实施例提供了一种光刻装置,包括掩膜台和如上述第一方面所述的温度控制系统,温度控制系统用于对掩膜台进行冷却。
第三方面,本发明实施例提供了一种温度控制方法,包括:
检测温控参数,温控参数至少包括输出的冷量对应的冷气流量及冷量温度和/或输出的热量对应的热气流量及热量温度,以及温控对象的温度;
根据温控参数,通过调节冷气流量及冷量温度,调节多级串联的涡流管向温控对象输出的冷量,和/或通过调节热气流量及热量温度,调节多级串联的涡流管向温控对象输出的热量,以使温控对象的温度达到目标温度。
本发明的有益效果是:本发明提供的温度控制系统,通过将多个(多级)涡流管串联,合理利用多级涡流管的冷端和/或热端,不仅可以向温控对象单独输出冷量或热量,实现对温控对象的冷却或加热,还可以向温控对象同时输出冷量和热量,在对温控对象进行冷却或加热的同时,对温控对象进行温度补偿,提高了温度控制精度,且充分利用了冷量和热量,避免能源浪费;同时,多级涡流管串联,可实现复叠式制冷或制热,后一级涡流管将前一级涡流管输出的冷量进一步降温,或后一级涡流管将前一级涡流管输出的热量进一步升温,增大了冷量或热量的输出,实现热量和冷量的快速输出,且扩大了涡流管的温度控制范围。
附图说明
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