[发明专利]蚀刻液组合物及蚀刻方法有效
| 申请号： | 201810273822.5 | 申请日： | 2018-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN108690984B | 公开（公告）日： | 2022-10-25 |
| 发明（设计）人： | 清水寿和;大和田拓央 | 申请（专利权）人： | 关东化学株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/26 | 分类号： | C23F1/26 |
| 代理公司： | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人： | 陆凤;徐迅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种对Qz基板上的MoSi膜进行选择性蚀刻的蚀刻方法，其中，使用包含少于3.5重量％的氟化合物、水和0.1～25重量％的原高碘酸的蚀刻液组合物。
2.如权利要求1所述的蚀刻方法，其中，蚀刻液组合物的pH低于2.5。
3.如权利要求1或2所述的蚀刻方法，其中，氟化合物选自下组：氟化氢、氟化铵和二氟化氢铵。
4.如权利要求1或2所述的蚀刻方法，其中，蚀刻液组合物还包含酸。
5.如权利要求4所述的蚀刻方法，其中，酸为硫酸、磷酸、甲磺酸或硝酸。
6.如权利要求1或2所述的蚀刻方法，其中，原高碘酸的含量为0.2～25重量％。
7.如权利要求1或2所述的蚀刻方法，其中，原高碘酸的含量低于5重量％。
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