[发明专利]反应腔室内的工艺套件及反应腔室

权利要求书

1.一种反应腔室的工艺套件，其特征在于，包括：

绝缘环，耦接到基座并环绕所述基座的外周壁；

第一屏蔽环，耦接到所述绝缘环并环绕所述绝缘环的外周壁，且接地；

溅射环，承载于所述基座和所述绝缘环的上表面上；

遮蔽环，在被所述第一屏蔽环支撑时，其内环区域置于所述第一屏蔽环上且与所述溅射环间设有预设间隙，所述预设间隙用于防止甚高频信号自所述预设间隙泄露。

2.根据权利要求1所述的反应腔室的工艺套件，其特征在于，还包括：第二屏蔽环，包括竖筒和环形悬臂；所述竖筒环绕所述反应腔室内周壁；所述环形悬臂与所述竖筒的下端连接，并朝向反应腔室内的基座延伸，用于支撑所述遮蔽环的外环区域。

3.根据权利要求2所述的反应腔室的工艺套件，其特征在于，沿朝向所述遮蔽环的径向朝内，所述遮蔽环的外环区域的厚度逐渐减小；

且所述遮蔽环的外周壁与所述竖筒的内周壁之间具有所述预设间隙。

4.根据权利要求3所述的反应腔室的工艺套件，其特征在于，所述遮蔽环的外圈区域的轴向截面形状为三角形。

5.根据权利要求2所述的反应腔室的工艺套件，其特征在于，所述竖筒包括第一竖筒和第二竖筒；

所述第一竖筒环绕所述反应腔室内周壁；

所述第一竖筒沿其周向设置有多个进气口；所述第二竖筒环绕所述第一竖筒的内周壁，用于遮挡所述进气口；

所述环形悬臂设置在所述第一竖筒下端；

所述遮蔽环的外周壁与所述第二竖筒的内周壁之间具有所述预设间隙。

6.根据权利要求2所述的反应腔室的工艺套件，其特征在于，所述环形悬臂的内环区域形成有环形凹槽；

所述环形凹槽的外环壁上沿其周向间隔设置有多个进气口；

所述遮蔽环搭置于所述环形悬臂上时，所述遮蔽环遮蔽所述环形凹槽。

7.根据权利要求1-6任意一项所述的反应腔室的工艺套件，其特征在于，所述预设间隙的宽度范围在1mm～2mm。

8.根据权利要求7所述的反应腔室的工艺套件，其特征在于，所述预设间隙的深度与宽度的比值大于3。

9.根据权利要求3-5任意一项所述的反应腔室的工艺套件，其特征在于，所述预设间隙的深度与宽度的比值范围为10～30。

10.根据权利要求1所述的反应腔室的工艺套件，其特征在于，在所述第一屏蔽件的上端面上设置有环形凹槽，在所述环形凹槽内设置有环形诱电线圈。

11.一种反应腔室，包括工艺套件和基座，其特征在于，所述基座设置在所述反应腔室内，用于承载基片，所述工艺套件采用权利要求1-10任意一项所述的工艺套件。