[发明专利]一种金刚线切割多晶硅片制绒抛光调控剂在审
申请号: | 201810296660.7 | 申请日: | 2018-04-03 |
公开(公告)号: | CN108504289A | 公开(公告)日: | 2018-09-07 |
发明(设计)人: | 金炳生;高小云;刘兵 | 申请(专利权)人: | 苏州晶瑞化学股份有限公司 |
主分类号: | C09G1/16 | 分类号: | C09G1/16;C30B33/10 |
代理公司: | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人: | 李思睿 |
地址: | 215168 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多晶硅片 制绒 抛光 调控剂 线切割 环境有害物质 绿色环保产品 抗再沉淀剂 微凸起结构 质量百分比 表面油污 碱性物质 抛光过程 去离子水 渗透作用 物质混合 分散剂 润湿剂 损伤层 鳌合剂 硅片 乳化 抑泡 浊点 生产工艺 去除 | ||
本发明提供一种金刚线切割多晶硅片制绒抛光调控剂,包括如下组分及其质量百分比:分散剂0.1%‑1%、碱性物质0.1%‑1%、润湿剂0.005%‑0.1%、鳌合剂0.05%‑0.5%、抗再沉淀剂0.1%‑1%、余量为去离子水,各物质混合后搅拌即得成品。本发明产品在多晶硅片制绒抛光过程中能调节碱与硅的反应,去除多晶硅片表面油污和损伤层,形成硅片微凸起结构,不仅具有良好的渗透作用,而且还具有乳化、抑泡、无浊点等功能;且生产工艺简单,原料廉价易得,不含对环境有害物质,是一种绿色环保产品。
技术领域
本发明涉及太阳能电池制造技术领域,具体涉及一种金刚线切割多晶硅片制绒抛光调控剂。
背景技术
降本增效是光伏从业者孜孜不倦的追求。在硅片端,金刚线切割技术已展现出很大的优势,单晶硅片凭借金刚线切割技术的大规模应用,制造成本大幅降低,多晶硅市场由此受到挤压,使得多晶硅片降本压力进一步增大。然而,多晶硅片在使用金刚线切割时,经过抛光处理后,表面反射率更高并且有明显的线痕等外观缺陷,严重降低电池效率,阻碍了金刚线切割多晶硅片的大规模推广。
常规的硅片表面抛光或制绒,主要是采用NaOH/异丙醇(IPA)体系,这是由于硅与碱反应会产生氢气和硅的络合物,他们会粘附在硅片表面形成一层不易去除的“掩膜”,阻碍碱液与硅片接触,使硅片表面形成雨点状的缺陷。异丙醇等醇类对去除硅片表面氢气气泡效果非常好,但异丙醇对人体有危害,会造成环境污染。
为了改善生产环境,控制环境污染,需要开发新型调控剂替代传统的无机溶剂或有机溶剂类调控剂。
发明内容
本发明的目的是提供一种金刚线切割多晶硅片制绒抛光调控剂,采用分散剂、碱性物质、鳌合剂等调制而成,产品具有良好的渗透作用,还有乳化、抑泡、无浊点等功能;且生产工艺简单,原料廉价易得,不含对环境有害的物质,绿色环保。
为了实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:
一种金刚线切割多晶硅片制绒抛光调控剂,包括如下组分及其质量百分比:分散剂0.1%-1%、碱性物质0.1%-1%、润湿剂0.005%-0.1%、鳌合剂0.05%-0.5%、抗再沉淀剂0.1%-1%、余量为去离子水。
根据以上方案,所述分散剂为木质素磺酸钾、木质素磺酸钠、或两者的混合物。
根据以上方案,所述碱性物质为氢氧化钾、氢氧化钠、碳酸钾、碳酸钠中的任意一种或一种以上的混合物。
根据以上方案,所述润湿剂为烷基糖苷、萘酚聚氧乙烯醚、或两者的混合物。
根据以上方案,所述鳌合剂为甲酸钠、甲酸钾、乙酸钠、乙酸钾中的任意一种或一种以上的混合物。
根据以上方案,所述抗再沉淀剂为羧甲基纤维素钠(CMC),包括单一粘度或不同粘度的羧甲基纤维素钠的一种或一种以上的混合物。
根据以上方案,包括如下组分及其质量百分比:木质素磺酸钠0.2%-0.8%、氢氧化钾和碳酸钾的混合物0.2%-0.8%、萘酚聚氧乙烯醚0.01%-0.05%、乙酸钠0.1%-0.4%、粘度为100-2000cp的羧甲基纤维素钠0.2%-0.8%、余量为去离子水。
本发明的有益效果是:
本发明的调控剂在多晶硅片制绒抛光过程中能调节碱与硅的反应,去除多晶硅片表面油污和损伤层,形成硅片微凸起结构,不仅具有良好的渗透作用,而且还具有乳化、抑泡、无浊点等功能;且生产工艺简单,原料廉价易得,不含对环境有害物质,是一种绿色环保产品。
附图说明
图1是未经抛光的多晶硅片表面形貌结构示意图;
图2是使用本发明实施例1产品抛光后的多晶硅片表面形貌结构示意图;
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