[发明专利]一种陶瓷氧渗透膜复合结构及制备方法在审
| 申请号： | 201810301471.4 | 申请日： | 2018-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN108530108A | 公开（公告）日： | 2018-09-14 |
| 发明（设计）人： | 金万勤;张广儒;李健 | 申请（专利权）人： | 南京工业大学 |
| 主分类号： | C04B41/87 | 分类号： | C04B41/87 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 徐冬涛;袁正英 |
| 地址： | 211816 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氧渗透膜 致密纳米 制备 金属氧化物薄膜层 致密 陶瓷 复合结构 类钙钛矿型氧化物 钙钛矿型氧化物 金属氧化物薄膜 双层复合结构 萤石型氧化物 类钙钛矿型 水蒸气 表面沉积 钙钛矿型 组合气氛 膜结构 陶瓷膜 氧化铝 氧化钛 氧化铈 氧化锆 萤石 沉积 | ||
【权利要求书】：
1.一种陶瓷氧渗透膜复合结构，其特征在于为双层复合结构：致密氧渗透膜层及致密纳米金属氧化物薄膜层。
2.根据权利要求1所述的陶瓷氧渗透膜复合结构，其特征在于所述的致密氧渗透膜为钙钛矿型、类钙钛矿型或萤石型陶瓷膜中的任何一种。
3.根据权利要求1所述的陶瓷氧渗透膜复合结构，其特征在于所述致密纳米金属氧化物薄膜层的厚度为1-100nm。
4.根据权利要求1所述的陶瓷氧渗透膜复合结构，其特征在于致密纳米金属氧化物薄膜的材料为氧化铝、氧化锆、氧化钛、氧化铈、钙钛矿型氧化物、类钙钛矿型氧化物或萤石型氧化物中的任何一种。
5.一种制备如权利要求1所述的陶瓷氧渗透膜复合结构的方法，其特征在于利用特定的沉积技术在致密氧渗透膜上沉积致密纳米金属氧化物薄膜层，其中特定的沉积技术为原子层沉积、脉冲激光沉积或溅射中的任何一种。
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