[发明专利]包衣锅的监控方法及系统

权利要求书

1.一种包衣锅的监控系统，包括：

光源，所述光源发射初始光；

光分路设备，所述光分路设备用于将所述初始光分为参考光和样品光以及耦合反射回的所述参考光和所述样品光光束；

探头设备，所述探头设备包括探头和安装座，所述安装座设置在所述包衣锅的透明窗口上，所述探头设置在所述安装座上，所述安装座包括支撑部和调节部，所述支撑部用于支撑所述探头，所述调节部用于调节所述探头透射的所述样品光通过所述透明窗口在所述包衣上的聚焦位置，增大包衣锅内的存储空间；所述探头用于探测所述包衣反射的包衣反射光；

参考臂，所述参考臂包括准直透镜、补偿片及反射镜，所述补偿片设置于所述准直透镜与所述反射镜之间，所述补偿片用于调节参考光的强度和相位；所述准直透镜将所述参考光转变为平行光；所述反射镜和所述准直透镜的光轴垂直；所述反射镜将所述平行光反射，得到参考反射光；所述参考光和所述包衣反射光发生干涉，形成干涉光；

光谱仪，所述光谱仪采集并分析所述干涉光，得到干涉光谱信号；

处理器，所述处理器处理所述干涉光谱信号，得到包衣信息数据；

控制装置，所述控制装置根据所述包衣信息数据控制所述处理器和所述包衣锅的工作，以实现实时监测包衣。

2.根据权利要求1所述的监控系统，其特征在于，所述包衣锅还包括锅壁，所述透明窗口设置在所述锅壁上。

3.根据权利要求2所述的监控系统，其特征在于，所述反射镜至所述准直透镜的距离可调节；所述探头至所述包衣的焦距可调节。

4.根据权利要求2所述的监控系统，其特征在于，所述处理器与所述反射镜和所述光谱仪连接，所述处理器还用于调节所述反射镜相对所述准直透镜的位置，所述处理器还用于调节所述光谱仪的工作参数。

5.根据权利要求2所述的监控系统，其特征在于，所述探头设备还包括防尘膜，所述防尘膜设置在所述探头朝向所述包衣的一侧，所述防尘膜用于防止所述探头被粉尘污染。

6.根据权利要求2所述的监控系统，其特征在于，所述光分路设备是光纤耦合器；所述参考反射光传输回所述光纤耦合器；所述包衣反射光传输回所述光纤耦合器；所述参考反射光和所述包衣反射光在所述光纤耦合器中发生干涉。

7.根据权利要求2所述的监控系统，其特征在于，所述平行光的入射角为0°。

8.根据权利要求1所述的监控系统，其特征在于，所述包衣信息数据包括实时包衣截面数据、实时包衣厚度数据中的至少一种。

9.根据权利要求8所述的监控系统，其特征在于，所述处理器根据所述包衣信息数据进行图像处理，得出包衣截面图、包衣厚度变化趋势图、包衣平均厚度值的至少一种，并将所述包衣截面图、包衣厚度变化趋势图及包衣平均厚度值显示在显示设备上。

10.一种包衣锅的监控方法，其特征在于，基于如权利要求1至9中任一项所述的包衣锅的监控系统执行，所述方法包括：

发射初始光；

将所述初始光分为参考光和样品光；

使所述样品光会聚至所述包衣锅内的包衣处，所述包衣反射所述样品光形成包衣反射光；

使所述参考光和所述包衣反射光发生干涉，形成干涉光；

采集并分析所述干涉光，得到干涉光谱信号；

处理所述干涉光谱信号，得到包衣信息数据；

接收且分析所述包衣信息数据，对所述处理器和所述包衣锅进行调整。

11.根据权利要求10所述的监控方法，其特征在于，所述将所述初始光分为参考光和样品光的步骤之后包括：

使所述参考光经由平面的反射镜反射，形成参考反射光；其中，所述参考反射光的光程可调节；

所述使所述参考光和所述包衣反射光发生干涉，形成干涉光的步骤为：

使所述参考反射光和所述包衣反射光发生干涉，形成干涉光。