[发明专利]贴图生成方法、装置、设备和存储介质有效
申请号: | 201810311788.6 | 申请日: | 2018-04-09 |
公开(公告)号: | CN108537861B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 莫璐怡 | 申请(专利权)人: | 网易(杭州)网络有限公司 |
主分类号: | G06T11/60 | 分类号: | G06T11/60 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨泽;刘芳 |
地址: | 310052 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 贴图 生成 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
1.一种贴图生成方法,其特征在于,包括:
获取待生成低配贴图的第一模型资源列表,所述第一模型资源列表包括了模型数据、子模型数据、贴图、材质;
将所述第一模型资源列表输入顶点着色器进行处理,修改所述顶点着色器的输出为模型顶点对应的贴图UV坐标;
根据所述UV坐标以及模型使用的贴图进行渲染,得到所述第一模型资源列表对应的展开的2D贴图;
根据所述2D贴图进行合并拼接,得到所述第一模型资源列表的低配贴图;
所述根据所述UV坐标以及模型使用的贴图进行渲染,得到所述第一模型资源列表对应的展开的所述2D贴图,包括:
根据所述UV坐标以及模型使用的贴图,对模型中的子模型逐个进行3D模型渲染,得到多个渲染结果;
将所述多个渲染结果合并至同一张贴图,得到所述2D贴图。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述2D贴图进行合并拼接,得到所述第一模型资源列表的低配贴图之前,所述方法还包括:
保存所述2D贴图。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述2D贴图进行合并拼接,得到所述第一模型资源列表的低配贴图,包括:
对所述2D贴图进行边缘扩充和透明通道拼接,得到最终可进行匹配贴图拼接的颜色贴图;
对所述颜色贴图进行合并拼接,得到所述第一模型资源列表的低配贴图。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
将所述第一模型资源列表的低配贴图保存至所述第一模型资源列表的原贴图路径,并进行标识。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
当满足预设条件时,读取所述第一模型资源列表的低配贴图替代原贴图进行渲染。
6.一种贴图生成装置,其特征在于,包括:
获取模块,用于获取待生成低配贴图的第一模型资源列表;
处理模块,用于:
将所述第一模型资源列表输入顶点着色器进行处理,修改所述顶点着色器的输出为模型顶点对应的贴图UV坐标;
根据所述UV坐标以及模型使用的贴图进行渲染,得到所述第一模型资源列表对应的展开的2D贴图;
根据所述2D贴图进行合并拼接,得到所述第一模型资源列表的低配贴图;
所述处理模块,具体用于根据所述UV坐标以及模型使用的贴图,对模型中的子模型逐个进行3D模型渲染,得到多个渲染结果;将所述多个渲染结果合并至同一张贴图,得到所述2D贴图。
7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述装置还包括:
存储模块,用于保存所述2D贴图。
8.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述处理模块具体用于:
对所述2D贴图进行边缘扩充和透明通道拼接,得到最终可进行匹配贴图拼接的颜色贴图;
对所述颜色贴图进行合并拼接,得到所述第一模型资源列表的低配贴图。
9.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述处理模块还用于:
将所述第一模型资源列表的低配贴图保存至所述第一模型资源列表的原贴图路径,并进行标识。
10.根据权利要求9所述的装置,其特征在于,所述处理模块还用于:
当满足预设条件时,读取所述第一模型资源列表的低配贴图替代所述原贴图进行渲染。
11.一种电子设备,其特征在于,包括:处理器、存储器,所述存储器用于存储计算机指令,所述处理器用于执行所述存储器中存储的计算机指令,以实现如权利要求1至5任一项所述的低配贴图生成方法。
12.一种计算机可读存储介质,其特征在于,其中存储有计算机指令,所述计算机指令被处理器执行时实现权利要求1至5任一项所述的低配贴图生成方法。
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