[发明专利]贴图生成方法、装置、设备和存储介质有效

专利信息
申请号: 201810311788.6 申请日: 2018-04-09
公开(公告)号: CN108537861B 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: 莫璐怡 申请(专利权)人: 网易(杭州)网络有限公司
主分类号: G06T11/60 分类号: G06T11/60
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨泽;刘芳
地址: 310052 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 贴图 生成 方法 装置 设备 存储 介质
【说明书】:

发明提供一种贴图生成方法、装置、设备和存储介质,该方法包括:获取待生成低配贴图的第一模型资源列表,对第一模型资源列表进行处理,得到第一模型资源列表对应的展开的2D贴图,根据2D贴图进行合并拼接,得到第一资源列表的低配贴图。通过该方案可免去人工维护的成本,在资源迭代后,可批量自动化生成低配贴图。

技术领域

本发明涉及游戏领域,尤其涉及一种贴图生成方法、装置、设备和存储介质。

背景技术

随着手机硬件能力的提升,现在手游研发逐渐进入次世代制作的时代,基于物理的渲染(Physically-Based Rendering,PBR)逐渐成为次世代渲染引擎的标配。渲染需要的贴图也从原来的使用带光照信息的颜色贴图包括漫反射贴图Diffuse、高光贴图等组合进化到使用固有色贴图Albedo、法线贴图NormalMap、环境光吸收(Ambient Occlusion,AO)、粗糙度、金属度贴图等的基于物理计算关照信息的渲染流程上来。然而目前国内,特别是安卓市面上的手机硬件水平存在极大的差异化,除了高配置的硬件外,仍然有大部分的设备是针对中低端市场的。因此,针对低配机型,需要特殊生成对应的低配贴图来保证低配下的渲染效果依然能满足审美的需求。

最直接的方案是,在美术制作流程中,针对同一个模型,除了次世代制作流程中需要的贴图外,多手绘一张低配使用的贴图。然而弊端非常明显,在制作上增加的工期,相当于一个模型需要制作两遍。另外,还可以使用Substance等工具烘焙Diffuse贴图。Substance等次世代制作工作能够将模型的光照信息等烘焙到贴图中,从而生成带上细节信息的低配贴图。然后,这要求所有的次世代制作模型必须有原始的Substance模型,在统一的工具流中完成制作,同时还要求模型顶点UV不能重复等。很多次世代渲染使用的模型,制作上并没有使用Substance等工具,同时为了节省贴图,UV不重复的要求也往往难以满足。

因此,目前提供的低配贴图获取的方案依赖美术制作,人工维护成本较高,不能批量生成。

发明内容

本发明提供一种贴图生成方法、装置、设备和存储介质,用于解决目前提供的低配贴图获取的方案依赖美术制作,人工维护成本较高,不能批量生成的问题。

本发明第一方面提供一种贴图生成方法,包括:

获取待生成低配贴图的第一模型资源列表;

对所述第一模型资源列表进行处理,得到所述第一模型资源列表对应的展开的2D贴图;

根据所述2D贴图进行合并拼接,得到所述第一资源列表的低配贴图。

可选的,所述对所述第一模型资源列表进行处理,得到所述第一模型资源列表对应的展开的2D贴图,包括:

将所述第一模型资源列表输入顶点着色器进行处理,修改所述顶点着色器的输出为模型顶点对应的贴图UV坐标;

根据所述UV坐标以及模型使用的贴图进行渲染,得到所述第一模型资源列表对应的展开的所述2D贴图。

可选的,所述根据所述2D贴图进行合并拼接,得到所述第一资源列表的低配贴图之前,所述方法还包括:

保存所述2D贴图。

可选的,所述根据所述2D贴图进行合并拼接,得到所述第一资源列表的低配贴图,包括:

对所述2D贴图进行边缘扩充和透明通道拼接,得到最终可进行匹配贴图拼接的颜色贴图;

对所述颜色贴图进行合并拼接,得到所述第一资源列表的低配贴图。

可选的,所述根据所述UV坐标以及模型使用的贴图进行渲染,得到所述第一模型资源列表对应的展开的所述2D贴图,包括:

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