[发明专利]一种OLED基板及其制备方法

权利要求书

1.一种OLED基板的制备方法，包括：在衬底上的显示区形成若干OLED器件，所述OLED器件包括阳极、阴极、位于所述阳极和所述阴极之间的有机层，所述有机层包括发光层和功能层；其特征在于，

所述显示区的阴极呈阵列排布，且每个所述阴极覆盖多个所述OLED器件所在的区域，所述阴极之间相互绝缘；每个所述阴极通过所述功能层上的过孔与至少一根触控电极引线电连接；

其中，形成所述功能层，包括：将蒸镀源蒸发的有机材料，通过开放掩膜版沉积在所述显示区，同时，利用蒸镀遮挡装置进行遮挡，使有机材料沉积在所述显示区的除待形成所述过孔的位置处，形成包括所述过孔的所述功能层；

所述蒸镀遮挡装置包括若干隔离柱；

所述隔离柱与所述基板之间具有间距。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述隔离柱的个数与所述功能层上所述过孔的个数相等；

利用蒸镀遮挡装置进行遮挡，包括：将所述蒸镀遮挡装置与待形成所述功能层的基板对位，使所述隔离柱靠近所述基板并与待形成所述过孔的位置一一对应。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述蒸镀遮挡装置还包括载板，所述隔离柱固定于所述载板上；

所述载板位于所述蒸镀源所在平面的远离所述基板一侧，且所述蒸镀源位于所述载板的外围。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，设所述隔离柱与所述基板之间的间距为h，其中，H为所述蒸镀源所在平面距离所述基板竖直方向的距离，W为所述隔离柱相对两侧距离最远的两个所述蒸镀源的间距，w为所述过孔的直径，P为沿所述隔离柱相对两侧距离最远的两个所述蒸镀源的距离方向，所述隔离柱的宽度。

5.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，所有所述隔离柱的高度相等，且靠近所述基板的顶端的尺寸相等。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，形成所述功能层时，调节所述蒸镀源的喷头角度，并控制喷头在各角度下的蒸镀时间，以使所述功能层的膜厚均一。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述触控电极引线与形成于衬底和所述功能层之间的金属层同步形成。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述功能层包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层中的至少一种。