[发明专利]配向膜的制作方法和应用

权利要求书

1.一种制作配向膜的方法，其特征在于，包括：

提供基板，所述基板的一个表面上设置有配向液区和异形区，所述异形区与所述配向液区相邻设置，且所述配向液区位于所述异形区的周边，

其中，所述异形区选自凹陷区和凸起区中的至少一种，

所述凹陷区是指该区域均低于四周平面的区域，所述凹陷区包括阵列基板中与绝缘层中的过孔相对应的区域、和/或与所述阵列基板上的薄膜晶体管中的有源层处的沟道区对应的区域；

所述凸起区是指该区域均高于周围平面的区域，所述凸起区包括与走线区的金属走线相对应的区域；

在所述配向液区上喷涂配向液以形成配向液膜；

调整所述异形区周围的所述配向液的流动性，使得所述配向液向所述异形区流动并覆盖所述异形区；

对所述配向液进行固化处理，

其中，所述调整所述配向液的流动性是通过光照实现的，利用光照调整所述异形区周围的所述配向液的流动性的步骤包括：

提供具有开口的遮挡板，所述开口与所述异形区对应设置，且所述开口在所述基板上的正投影分别大于所述异形区在所述基板上正投影；

使红外光通过所述开口照射到所述异形区周围的所述配向液，使得所述异形区周围的所述配向液的温度升高且低于所述配向液中溶剂的沸点。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述喷涂为喷墨打印。

3.一种制作阵列基板或彩膜基板的方法，其特征在于，包括：利用权利要求1或2所述的方法制作配向膜的步骤。

4.一种阵列基板或彩膜基板，其特征在于，是利用权利要求3所述的方法制备的。

5.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求4所述的阵列基板和彩膜基板中的至少之一。

6.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述阵列基板和所述彩膜基板的至少之一上的异形区未被配向膜覆盖，且未被所述配向膜覆盖的所述异形区与所述彩膜基板上的黑矩阵对应设置。