[发明专利]一种钙钛矿膜层及钙钛矿发光二极管器件的制备方法有效
申请号: | 201810343741.8 | 申请日: | 2018-04-17 |
公开(公告)号: | CN108511616B | 公开(公告)日: | 2020-03-20 |
发明(设计)人: | 陈淑芬;冯增勤;于洪涛;黄维 | 申请(专利权)人: | 南京邮电大学 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/56 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 210003 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 钙钛矿膜层 钙钛矿 发光二极管 器件 制备 方法 | ||
本发明公开了一种钙钛矿膜层及钙钛矿发光二极管器件的制备方法,包括如下步骤,1)将透明导电玻璃基片进行标准化清洗后烘干;2)将基片放于紫外臭氧灯下照射10min,再将空穴传输材料旋涂在透明导电玻璃上,形成空穴传输层;3)使用多次旋涂法旋涂钙钛矿前驱体溶液,在空穴传输层旋涂形成钙钛矿发光层;4)在钙钛矿发光层上真空蒸镀电子传输材料,形成电子传输层;5)在电子传输层上依次真空蒸镀电子注入材料和金属,形成电子注入层和阴极层,得到钙钛矿发光二极管器件;6)将发光器件在惰性气体氛围的手套箱中进行封装。本发明提供的多次旋涂法可抑制钙钛矿的结晶,使钙钛矿膜更加致密、均匀,覆盖率大,PL增强,有助于提高发光二极管器件性能。
技术领域
本发明涉及一种钙钛矿膜层及钙钛矿发光二极管器件的制备方法,属于电致发光二极管器件技术领域。
背景技术
有机发光二极管(OLED)因其制备工艺简单、响应速度快、无需背光源和能够实现柔性弯曲等诸多优点而被广泛关注。近几年,钙钛矿材料因同时具有有机和无机半导体材料的特性,受到广泛关注。卤化物钙钛矿材料所具备的独特优势如较高的载流子迁移率、较低的激子束缚能、较宽的吸收光谱等使其在光伏电池、电致发光器件和光电探测器等光电器件方面有着广泛的应用。此外,钙钛矿材料可通过低温、溶液法,快速、大面积的制备器件的优势可从根源上节约制作成本,简化制作工艺,使其具有非常大的商业潜力。
基于钙钛矿材料的发光二极管是一种诸如MAX3(其中M为有机胺基团,A为第四主族金属,X为一元卤族元素或多元卤族元素的组合,所述有机胺基团为烷基胺、芳香胺的任意一种;所述的第四主族金属为Pb2+、Ge2+或Sn2+中的任意一种;所述的一元卤族元素为Cl、Br和I中的任意一种;所述的多元卤族元素的组合具有如下结构通式:-ClxBryIz,其中,x+y+z=3)形式的化合物作为发光材料的二极管,发光二极管的基本结构,从下往上依次分为透明导电电极、空穴传输层、钙钛矿发光层、电子传输层、电子注入层、金属电极。其中研发重点关注的是钙钛矿发光层。研究表明,钙钛矿膜层的质量决定着整个器件的性能。
传统制备钙钛矿薄膜的方法包括蒸镀法和溶液法。蒸镀法因为其设备昂贵,原料利用低下,使得成本高而较少应用。而一般的溶液法制备的钙钛矿膜层覆盖率较低,有很多小孔,导致发光层上下的电子和空穴传输层直接接触,分流严重,严重影响器件性能。
发明内容
目的:为了克服现有技术中存在的不足,本发明提供一种钙钛矿膜层及钙钛矿发光二极管器件的制备方法。
技术方案:为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案为:
一种钙钛矿膜层的制备方法,具体地是,使用多次旋涂法旋涂钙钛矿前驱体溶液,形成钙钛矿膜层。
进一步地,具体旋涂五次钙钛矿前驱体溶液;第一次旋涂转速条件为2000r/60s,80℃退火10min;第二、三、四、五次旋涂钙钛矿前驱体溶液,转速条件分别是4000、6000、8000、10000r/60s,80℃各退火10min。
一种钙钛矿膜层,利用前述制备方法制备得到。
一种钙钛矿发光二极管器件的制备方法,包括如下步骤,
步骤一,将透明导电玻璃基片进行标准化清洗后烘干;
步骤二,将透明导电玻璃基片放于紫外灯下照射10min,然后将空穴传输材料旋涂在透明导电玻璃上,形成空穴传输层,将制好的片子转移到手套箱中;
步骤三,使用多次旋涂法旋涂钙钛矿前驱体溶液,在空穴传输层旋涂形成钙钛矿发光层,将制好的片子置于真空腔内,抽真空至1.0*10-4Pa;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择