[发明专利]温度控制方法和装置

说明书

本发明涉及一种温度控制方法和装置，包括：预设温度补偿曲线；设定目标温度；获取孵育盘温度和环境温度，计算所述孵育盘温度和所述环境温度的温度差；基于所述温度差和所述温度补偿曲线得出温度补偿值；根据所述温度补偿值，控制加热组件加热孵育盘直至所述目标温度。本发明提供的温度控制方法和装置预先设定温度补偿曲线，在实施温控时，只需要设定目标温度，将温度传感器采集到的温度信息代入温度补偿曲线中，获取温度补偿值，根据温度补偿值即可对孵育盘的温度进行控制。本发明相对于传统的方法更加简单、快捷。

技术领域

本发明涉及医疗检测领域，特别是涉及一种温度控制方法和装置。

背景技术

在IVD(In-Vitro Diagnostics)体外诊断设备中，例如化学发光免疫分析仪，其测量过程，对温度都有一定的要求，一般反应需要在37℃左右的环境中进行。当温度超出范围时，会导致反应异常，最终造成测量结果出现异常。由于在仪器中，其反应过程一般都是在孵育盘中进行，因此，准确的保持孵育盘温度，对整个测量过程，具有重要的意义。

目前，对于温度的控制，主要是设定目标温度后，通过检测加热温度与目标温度之间的差异，实施对加热组件的控制。依据环境设定液体目标温度，通过比较采集的液体温度和目标温度，来控制加热组件的工作状态。但是这种方法，仅限于液体温度控制，且温度控制需通过传感器采集温度信息让处理器分析，处理效率不及时。

发明内容

基于此，有必要针对液体温度控制和温度控制需通过传感器采集温度信息让处理器分析，处理效率不及时问题，提供一种温度控制方法和装置。

一种温度控制方法，用于控制孵育盘温度，为体外诊断设备提供稳定的温度环境，包括：

预设温度补偿曲线；

设定目标温度；

获取孵育盘温度和环境温度，计算所述孵育盘温度和所述环境温度的温度差；

基于所述温度差和所述温度补偿曲线得出温度补偿值；

根据所述温度补偿值，控制加热组件使所述孵育盘温度达到所述目标温度。

在其中一个实施例中，所述根据所述温度补偿值，开启加热组件加热孵育盘直至所述目标温度步骤还包括：

判断所述孵育盘温度是否达到所述目标温度；

若未达到所述目标温度，则重新获取所述温度补偿值，所述加热组件根据温度补偿值加热所述孵育盘；

若达到所述目标温度，则关闭加热组件。

在其中一个实施例中，所述设定目标温度步骤还包括，

设定保护温度，所述保护温度高于所述目标温度。

在其中一个实施例中，所述温度补偿曲线为不同的孵育盘温度和/或不同的环境温度的温度差所对应温度补偿值。

一种温度控制装置，包括：恒温腔、孵育盘、加热组件、温度传感器以及温控器，所述孵育盘、所述温度传感器以及所述加热组件设置于所述恒温腔内；所述温控器与所述温度传感器以及加热组件电连接；

所述加热组件用于对所述恒温腔内环境进行加热；

所述温度传感器用于检测孵育盘温度和环境温度，并将所述孵育盘温度和所述环境温度发送至所述温控器；

所述温控器预设有温度补偿曲线，用于设定目标温度，计算所述孵育盘温度和所述环境温度的温度差，将所述温度差和所述目标温度代入所述温度补偿曲线得到温度补偿值，根据所述温度补偿值，控制加热组件加热孵育盘直至所述目标温度。