[发明专利]光耦合器在审
申请号: | 201810357457.6 | 申请日: | 2018-04-20 |
公开(公告)号: | CN108735853A | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | 蒋国军;黄柏杰;李名京 | 申请(专利权)人: | 亿光电子工业股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/12 | 分类号: | H01L31/12 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 吴志红;臧建明 |
地址: | 中国台湾新*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 连接区 发光芯片 感光芯片 电性连接 光耦合器 绝缘结构 基板 隔离电场 覆盖 | ||
1.一种光耦合器,包括:
至少一个发光芯片,设置于第一连接区上,用以发射至少一个不可见光线;
至少一个感光芯片,设置于第二连接区上,用以接收所述至少一个不可见光线;
绝缘结构,设置于所述至少一个发光芯片和所述至少一个感光芯片之间,用于隔离电场;
第一胶体,用于覆盖所述至少一个发光芯片、所述至少一个感光芯片、所述第一连接区、所述第二连接区以及所述绝缘结构;
第二胶体,用于覆盖所述第一胶体;以及
基板,具有凹槽;
其中,所述第一连接区和所述第二连接区设置在所述基板中并且具有导电特性,所述至少一个发光芯片设置于所述凹槽内且与作为信号输入端的所述第一连接区电性连接,所述至少一个感光芯片设置于所述凹槽内且与作为信号输出端的所述第二连接区电性连接,所述第一胶体和所述第二胶体设置于所述凹槽内。
2.根据权利要求1所述的光耦合器,其中所述绝缘结构包括:设置于所述凹槽上的至少一个凸部和/或至少一个凹部,其中所述至少一个凸部的高度不大于所述第一胶体高度的二分之一,其中所述至少一个凹部的高度不大于所述基板厚度的二分之一。
3.根据权利要求2所述的光耦合器,其中所述凹槽包括底面和设置有反射层的侧面,其中所述侧面环绕所述底面,并且其中所述至少一个发光芯片和所述至少一个感光芯片设置于所述底面。
4.根据权利要求2所述的光耦合器,其中所述第一胶体为高透光材料所形成,包括聚酰亚胺或硅胶;
所述第二胶体为反射性材料所形成,包括环氧树脂;
所述基板的材料为非金属材料,包括硅基板或玻璃基板;
所述至少一个发光芯片包括红外线发光二极管、氮化镓基发光二极管、砷化铝镓发光二极管或磷砷化镓发光二极管;并且
所述至少一个感光芯片包括光电二极管、光电晶体管、光达灵顿晶体管、光控晶闸管、光双向晶闸管或光电集成电路。
5.根据权利要求2所述的光耦合器,其中,
当所述绝缘结构包括至少一个凸部和至少一个凹部时,所述至少一个凸部与所述至少一个凹部相邻。
6.根据权利要求2所述的光耦合器,其中所述至少一个凸部和所述至少一个凹部的剖面形状为三角形、四角形、或多边形。
7.根据权利要求2所述的光耦合器,其中当所述绝缘结构包括至少一个凸部和至少一个凹部时,所述至少一个凸部为次凸部,设置于所述至少一个凹部中。
8.一种光耦合器,包括:
至少一个发光芯片,设置于第一连接区上,用以发射至少一个不可见光线;
至少一个感光芯片,设置于第二连接区上,用以接收所述至少一个不可见光线;
绝缘结构,设置于所述至少一个发光芯片和所述至少一个感光芯片之间,用于隔离电场,所述绝缘结构包括连接部和隔离部并且通过所述连接部与所述第一连接区和所述第二连接区连接,使得设置于所述连接部的所述隔离部位于所述发光芯片和所述感光芯片之间;
第一胶体,用于覆盖所述至少一个发光芯片、所述至少一个感光芯片、所述第一连接区、所述第二连接区以及所述绝缘结构;以及
第二胶体,用于覆盖所述第一胶体。
9.根据权利要求8所述的光耦合器,其中所述连接部由黏着性材料所制成,并且所述隔离部由透明绝缘材料所制成,包括聚酰亚胺。
10.根据权利要求8所述的光耦合器,其中所述隔离部垂直设置于所述连接部,所述隔离部从所述连接部开始延伸的垂直高度不大于所述第一胶体的厚度,并且所述隔离部为立方体或锥状体。
11.根据权利要求8所述的光耦合器,其中所述隔离部倾斜地设置于所述连接部。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的