[发明专利]一种镧、镝、铈共掺的硅酸钇镥闪烁材料及其晶体生长方法有效

专利信息
申请号: 201810370782.6 申请日: 2018-04-24
公开(公告)号: CN108560053B 公开(公告)日: 2020-01-31
发明(设计)人: 彭方;郭玉勇;王晓梅;马孙明 申请(专利权)人: 安徽晶宸科技有限公司
主分类号: C30B29/22 分类号: C30B29/22;C30B1/10;C09K11/79
代理公司: 53113 昆明合众智信知识产权事务所 代理人: 李岿
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 晶体生长 硅酸钇镥 闪烁材料 共掺 生长 退火 高温固相合成 保护气体 等径生长 发光光谱 冷等静压 闪烁晶体 闪烁性能 自动降温 自动控温 多晶料 晶体的 空位 多晶 格位 熔融 掺杂 压制 保证
【权利要求书】:

1.一种镧、镝、铈共掺的硅酸钇镥闪烁材料,其特征在于,具有以下化学式组成:La2pDy2qCe2m(Lu1-nYn)2(1-p-q-m)SiO5,其中0<p≤0.02,0<q≤0.02,0<m≤0.03,0.01≤n≤0.1,且p、q、m满足0<p+q+m≤0.05;

所述硅酸钇镥闪烁材料中铈的有效分凝系数为0.35-0.45、镧的有效分凝系数为0.3-0.5、镝的有效分凝系数为0.5-0.6。

2.如权利要求1所述一种铈、镧、镝共掺的硅酸钇镥闪烁材料的晶体生长方法,其特征在于,包括如下步骤:

S1:按摩尔份将p份La2O3、q份Dy2O3、2m份CeO2、n(1-p-q-m)份Y2O3、(1-n)(1-p-q-m)份Lu2O3、1份SiO2混合均匀后,以10℃/min的速率升温至1100-1400℃,并煅烧30-100h,固相合成化学式为La2pDy2qCe2m(Lu1-nYn)2(1-p-q-m)SiO5的多晶料块;

S2:常温下,以300-630MPa的压力压制化学式为La2pDy2qCe2m(Lu1-nYn)2(1-p-q-m)SiO5的多晶料块,并在0.15MPa保护气体气氛下,加热至熔融状态,得到晶体生长初始熔体;

S3:按6-30rpm的转速旋转籽晶,并以0.8-5mm/h的拉速向上提拉,当晶体直径生长至90-110mm时,转速和拉速逐步降为0,结束等径生长,并利用PID算法自动降温至室温,完成镧、镝、铈共掺的硅酸钇镥晶体的生长。

3.根据权利要求2所述一种铈、镧、镝共掺的硅酸钇镥闪烁材料的晶体生长方法,其特征在于,所述固相合成反应方程式:

4.根据权利要求2所述一种铈、镧、镝共掺的硅酸钇镥闪烁材料的晶体生长方法,其特征在于,所述保护气体包括氮气、氦气、氩气、二氧化碳的一种或几种,且气流量为5-30L/min。

5.根据权利要求2所述一种铈、镧、镝共掺的硅酸钇镥闪烁材料的晶体生长方法,其特征在于,所述籽晶为La2pDy2qCe2m(Lu1-nYn)2(1-p-q-m)SiO5单晶或LYSO单晶。

6.根据权利要求5所述一种铈、镧、镝共掺的硅酸钇镥闪烁材料的晶体生长方法,其特征在于,所述籽晶的截面法线方向为<100>、<010>或<001>方向。

7.根据权利要求2所述一种铈、镧、镝共掺的硅酸钇镥闪烁材料的晶体生长方法,其特征在于,所述PID算法控温原理:PID算法根据晶体在单位时间内生长的质量变化情况,主动反馈调节系统的加热功率,实现对晶体从生长阶段至退火阶段的自主控制,使晶体成品率≥90%。

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