[发明专利]用于确定填充水平的方法和填充水平测量设备

说明书

用于利用填充水平测量设备来确定布置在容器中的过程介质的填充水平的方法，填充水平测量设备构型为TDR填充水平测量设备，其中，填充水平测量设备具有用于引导电磁信号的信号线、信号线头部和电子单元，信号线伸入到过程介质中，至少包括下述步骤：通过电子单元产生具有振幅A_S的脉冲形发送信号，发送信号作为可变振幅的测量信号沿着信号线传播，通过电子单元检测并评估具有振幅A_refl的反射信号，反射信号对应于测量信号在第一介质与第二介质之间的界面处的反射，其中，第一介质具有第一阻抗z₀，第二介质具有第二阻抗z₁，其特征在于，电子单元构型用于至少根据穿过第一介质传送的测量信号的振幅和反射信号的振幅A_refl来确定第二介质的相对介电常数ε_r。

技术领域

本发明以一种用于利用填充水平测量设备来确定布置在容器中的过程介质的填充水平的方法为出发点，其中，所述填充水平测量设备构型为TDR填充水平测量设备，其中，所述填充水平测量设备具有至少一个用于引导电磁信号的信号线、信号线头部和电子单元，其中，所述信号线伸入到所述过程介质中，并且其中，所述方法至少包括下述步骤：

- 通过所述电子单元产生具有振幅A_S的脉冲形发送信号，其中，所述发送信号作为可变振幅的测量信号沿着所述信号线传播，

- 通过所述电子单元检测并且评估具有振幅A_refl的至少一个反射信号，其中，所述反射信号对应于所述测量信号在第一介质与第二介质之间的界面处的反射，其中，所述第一介质具有第一阻抗z₀，所述第二介质具有第二阻抗z₁。

此外，本发明还以一种用于确定容器中的过程介质的填充水平的填充水平测量设备为出发点，其包括至少一个用于引导电磁信号的信号线、信号线头部和电子单元，其中，所述电子单元构型用于产生脉冲形发送信号，其中，所述发送信号作为测量信号沿着所述信号线传播，并且其中，所述电子单元构型用于检测并且评估具有振幅A_refl的至少一个反射信号，其中，所述反射信号对应于所述测量信号在第一介质与第二介质之间的界面处的反射，其中，所述第一介质具有第一阻抗z₀，所述第二介质具有第二阻抗z₁。

背景技术

现有技术已知基于时域反射（TDR）方法来确定布置在容器中的介质的填充水平。TDR填充水平测量设备具有信号线，该信号线在运行时伸入到待测量的过程介质中。此外，电磁测量信号沿着所述信号线被引导至所述过程介质。由于在该过程介质的上方和下方的介质具有不同的阻抗，因此，所述信号在该过程介质的表面处被反射。由被反射的信号的运行时间能够确定该过程介质的填充水平高度。

在这种背景下重要的参数是该电磁测量信号在所述容器中的和尤其是在该过程介质上方的介质中的传播速度。这个传播速度取决于该介质的相对介电常数。如果布置在该过程介质上方的介质与空气不同，或者如果该介质的成分在测量过程中发生变化，则对被所述测量信号穿过的介质的相对介电常数的了解改善了确定填充水平的准确度。