[发明专利]真空室装置

权利要求书

1.一种真空室装置(100)，包括：

真空室(102)，其包括第一供应通道(102v)；

基板保持装置(104)，其包括用于保持和定位至少一个基板的基板保持器(110)以及用于向所述基板保持器(110)供应至少一种供应介质的真空密封的供应壳体(108)，其中，所述供应壳体(108)包括第二供应通道(108v)；

支承装置(106)，所述基板保持装置(104)借助于所述支承装置被可移动地支撑在所述真空室(102)内；以及

供应软管(112)，其将所述第一供应通道(102v)连通到所述第二供应通道(108v)。

2.根据权利要求1所述的真空室装置(100)，其中，所述真空室(102)包括锁定室(202a)和至少一个处理室(202b)。

3.根据权利要求2所述的真空室装置(100)，其中，所述第一供应通道(102v)布置在所述锁定室(202a)的室壁部(202w)中，并且其中，所述基板保持装置(104)借助于所述支承装置(106)被支撑，使得至少所述基板保持装置(104)的基板保持器(110)能够从所述锁定室(202a)移出并进入到所述至少一个处理室(202b)中和/或从所述至少一个处理室(202b)移出并进入到所述锁定室(202a)中。

4.根据权利要求1所述的真空室装置(100)，其中，供应结构(108s)布置在所述供应壳体(108)中，以便实现以下中的至少一个：

操纵定位；

冷却所述基板保持器(110)；和/或

冷却所述供应壳体(108)。

5.根据权利要求1所述的真空室装置(100)，其中，所述基板保持器(110)包括至少一个接头(602s、604r)，所述至少一个接头提供用于定位至少一个基板(606)的至少一个移动自由度。

6.根据权利要求2所述的真空室装置(100)，其中，所述基板保持装置(104)借助于所述支承装置(106)被支撑，使得所述基板保持装置能够在至少一个第一位置和一个第二位置之间移动(106b)，并且其中，所述基板保持器(110)在所述第一位置布置在所述锁定室(202a)内，并且其中，所述基板保持器(110)在所述第二位置布置在所述至少一个处理室(202b)内。

7.根据权利要求1所述的真空室装置(100)，其中，所述基板保持器(110)包括至少一个可枢转支撑的支撑臂(602)。

8.根据权利要求7所述的真空室装置(100)，其中，所述至少一个支撑臂(602)包括用于接收和定位至少一个基板(606)的至少一个可旋转支撑的基板接收器(604)。

9.根据权利要求1所述的真空室装置(100)，其中，所述供应软管(112)是真空密封的并且构造为使得，所述基板保持装置(104)能够在所述真空室(102)内移动，而同时所述供应软管(112)将所述第一供应通道(102v)和所述第二供应通道(108v)彼此连通。

10.根据权利要求1所述的真空室装置(100)，其中，所述供应软管(112)、所述供应壳体(108)以及所述第一供应通道(102v)和所述第二供应通道(108v)构造为使得，所述供应软管(112)的内部和所述供应壳体(108)的内部与所述真空室(102)的内部以真空方式隔离。

11.根据权利要求1所述的真空室装置(100)，其中，至少一个供电引线布置在所述供应软管(112)内。

12.根据权利要求1所述的真空室装置(100)，其中，至少一个冷却剂供应管线布置在所述供应软管(112)内。