[发明专利]真空室装置

说明书

一种真空室装置(100)，其具有：真空室(102)，其具有第一供应通道(102v)；基板保持装置(104)，其具有用于保持和定位至少一个基板的基板保持器(110)和用于向基板保持器(110)供应至少一种供应介质的真空密封的供应壳体(108)，其中供应壳体(108)具有第二供应通道(108v)；支承装置(106)，基板固定装置(104)借助于该支承装置被可移动地支撑在真空室(102)内；以及供应软管(112)，其将第一供应通道(102v)连通至第二供应通道(108v)。

技术领域

各种说明性实施例涉及真空室装置并且涉及真空处理装置或真空涂覆装置。

背景技术

一般而言，许多不同的方法被用于处理基板。例如，玻璃板、塑料片、金属带、薄膜、晶圆、工件或类似物可用作基板。在常规实践中，例如可以借助于处理设备(例如真空处理设施、大气压力处理设施或超压处理设施)单独或一起处理基板。

为了在真空室中处理相应的基板，例如可能需要将介质(例如电能、冷却水、处理气体、真空、扭矩等)输送到真空室中，可以通过相应的昂贵的设计以常规方式实现这一点。例如，它们可以借助于真空通道(也称为通道、馈通等)在任何所需的位置被引入到真空室中。然而，在大量介质以及这些介质可供使用的多个位置的情况下，这导致需要相应的大量真空通道，并且这可能在成本方面带来不利。

发明内容

根据各个实施例，提供了一种用于处理基板的真空室装置，例如用于同时处理多个基板，例如涡轮叶片，例如航空器涡轮叶片等。在这种情况下，以低成本并以有效方式在真空室中提供介质的相应路线。

一般而言，借助于气相沉积(例如物理或化学气相沉积)，涡轮叶片或其它基板可以设置有一个或多个保护层，例如陶瓷保护层，以便例如改善其磨损行为。例如，涡轮叶片可以通过陶瓷涂层来涂覆，尤其是针对相对于热气体的绝热。根据各个实施例，为此目的使用的真空涂覆设施可具有至少一个加载室、加热室和涂覆室，或者可由这些构成。

例如，借助于数量较少但例如具有多种功能(例如在共同处理室中加载和加热)的室，也可以提供用于相同用途的设施。根据各个实施例，可以实现以下中的至少一个，以例如提高生产率：

1.用于每个基板传送单元的基板载体的双重布置。

2.加载室和加热室的双重或四重布置，它们顺序地用于蒸气涂覆室的双向涂覆。

3.串联设施，其中基板基于循环时间线性地移动通过真空涂覆设施。

根据各个实施例，基板载体(例如在本文中称为基板保持器或基板接收器)可以固定在大气箱(例如在本文中称为供应壳体)上。例如，所有需要的驱动器和介质连接部均位于此箱中。此箱中的驱动器和介质连接部可以通过柔性(可弯曲和/或可延展)供应软管供应。例如，供应软管可将大气箱连通到其中布置有大气箱的真空室的室壁中的通孔，从而允许从真空室外部接近大气箱。

根据各个实施例，本文描述的真空设施可用于借助于电子束蒸气涂覆来涂覆涡轮叶片。在这种情况下，基板传送单元(例如在本文中称为基板保持装置)可以布置为使得在真空设施中纵向地移动，并且可具有以下部件或由以下部件构成：带有运输辊子的底架、纵向驱动器(例如借助于螺钉或主轴和驱动器)以及热屏蔽件。大气箱可以布置在底架上。例如，可以在箱中布置以下中的至少一个：用于相互独立地倾斜一个或多个(例如两个)基板载体的驱动器、用于旋转基板的驱动器、用于冷却水的连接部、用于中间真空抽取的连接部、用于空气循环的连接部以及所有需要的电连接部。例如，两个基板载体可以借助于两个支撑臂可枢转地固定在箱上。例如，相应的基板载体可以借助于支撑臂可枢转地固定在箱上。例如，可以在位于加载室和加热室中的轨道上引导基板传送单元。例如，可以借助于位于加载室中的主轴纵向地移动基板传送单元。例如，基板传送单元可以在多个位置(例如三个位置)之间移动：1.加载/卸载；2.加热；3.蒸气涂覆。