[发明专利]一种提高硅原子的悬挂键键合的方法在审
申请号: | 201810381048.X | 申请日: | 2018-04-25 |
公开(公告)号: | CN108649043A | 公开(公告)日: | 2018-10-12 |
发明(设计)人: | 王喜龙;胡胜;邹文 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 俞涤炯 |
地址: | 430205 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硅原子 介质层 悬挂键 晶圆表面 上表面 键合 氧化硅层 氧化气体 保护层 半导体领域 一氧化硅层 不饱和键 高温退火 晶体表面 离子键合 退火处理 富氧化 氧离子 晶圆 预设 穿透 | ||
本发明公开了一种提高硅原子的悬挂键键合的方法,其属于半导体领域的技术,包括:步骤S1,对一晶圆表面进行氧化,形成一氧化硅层,所述氧化硅层的上表面具有悬挂键;步骤S2,于所述氧化硅层的上表面设置一介质层;步骤S3,在预设的第一温度下对所述介质层的表面进行富氧化处理;步骤S4,于所述介质层的上表面设置一保护层;步骤S5,对所述晶圆进行退火处理。该技术方案的有益效果是:本发明通过在保护层表面通以氧化气体,氧化气体中的氧离子穿透介质层到达晶圆表面,再经过高温退火处理后,使得晶体表面的硅原子不饱和键和氧离子键合,从而提高了晶圆表面的硅原子悬挂键的键合。
技术领域
本发明涉及的是一种半导体领域的技术,具体是一种提高硅原子的悬挂键键合的方法。
背景技术
自上世纪60年代末期,美国贝尔实验室提出固态成像器件概念后,固体图像传感器便得到了迅速发展,成为传感技术中的一个重要分支。它是个人计算机多媒体不可缺少的外设,也是监控设备中的核心器件。
近年来,由于集成电路设计技术和工艺水平的提高,CMOS图像传感器(CMOS ImageSensor,CIS)因其固有的诸如像元内放大、列并行结构,集成度高、采用单电源和低电压供电、成本低和技术门槛低等特点得到更广泛地应用。同时,低成本、单芯片、功耗低和设计简单等优点使CIS在保安监视系统、可视电话、可拍照手机、玩具、汽车和医疗电子等低端像素产品领域中大出风头。
CMOS图像传感器,是一种典型的固体成像传感器。CMOS图像传感器通常由像敏单元阵列、行驱动器、列驱动器、时序控制逻辑、AD转换器、数据总线输出接口、控制接口等几部分组成,这几部分通常都被集成在同一块硅片上。其工作过程一般可分为复位、光电转换、积分、读出几部分。
CIS晶圆上的白色像素(White Pixel,WP)的数量是指在无光照条件下CIS器件输出的DN(Digital Number,DN)值大于64的像素数量,它是评估CIS器件性能的一个重要指标,直接反应器件成像质量。因此,提高CIS器件WP性能,即降低白色像素点数量是CIS器件制造工艺的一个长期目标。
悬挂键是化学键。一般晶体因晶格在表面处突然终止,在表面的最外层的每个原子将有一个未配对的电子,即有一个未饱和的键,这个键称为悬挂键。
制备CIS过程中,在高K介质层之下的硅界面处硅原子与氧原子键合形成二氧化硅层。然而,在现有的CIS制程工艺中,硅界面的硅原子的悬挂键形成键合的原子来源较少且缺乏键合动力,造成硅界面间悬挂键的键合程度较低,导致器件白色像素较多,降低了整个CIS的性能。
发明内容
本发明针对现有技术存在的上述不足,提出一种提高硅原子的悬挂键键合的方法,通过在保护层表面通以氧化气体,氧化气体中的氧离子穿透介质层到达晶圆表面,再经过高温退火处理后,使得晶体表面的硅原子不饱和键和氧离子键合,从而提高了晶圆表面的硅原子悬挂键的键合。
本发明是通过以下技术方案实现的:
本发明涉及一种提高硅原子的悬挂键键合的方法,其中,包括以下步骤:
步骤S1,对一晶圆表面进行氧化,形成一氧化硅层,所述氧化硅层的上表面具有悬挂键;
步骤S2,于所述氧化硅层的上表面设置一介质层;
步骤S3,在预设的第一温度下对所述介质层的表面进行富氧化处理;
步骤S4,于所述介质层的上表面设置一保护层;
步骤S5,对所述晶圆进行退火处理。
优选的,该提高硅原子的悬挂键键合的方法,其中,所述退火处理的温度范围为250~1400℃。
优选的,该提高硅原子的悬挂键键合的方法,其中,所述介质层为高K介质层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的