[发明专利]一种提高硅原子的悬挂键键合的方法在审

专利信息
申请号: 201810381048.X 申请日: 2018-04-25
公开(公告)号: CN108649043A 公开(公告)日: 2018-10-12
发明(设计)人: 王喜龙;胡胜;邹文 申请(专利权)人: 武汉新芯集成电路制造有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 俞涤炯
地址: 430205 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 硅原子 介质层 悬挂键 晶圆表面 上表面 键合 氧化硅层 氧化气体 保护层 半导体领域 一氧化硅层 不饱和键 高温退火 晶体表面 离子键合 退火处理 富氧化 氧离子 晶圆 预设 穿透
【说明书】:

发明公开了一种提高硅原子的悬挂键键合的方法,其属于半导体领域的技术,包括:步骤S1,对一晶圆表面进行氧化,形成一氧化硅层,所述氧化硅层的上表面具有悬挂键;步骤S2,于所述氧化硅层的上表面设置一介质层;步骤S3,在预设的第一温度下对所述介质层的表面进行富氧化处理;步骤S4,于所述介质层的上表面设置一保护层;步骤S5,对所述晶圆进行退火处理。该技术方案的有益效果是:本发明通过在保护层表面通以氧化气体,氧化气体中的氧离子穿透介质层到达晶圆表面,再经过高温退火处理后,使得晶体表面的硅原子不饱和键和氧离子键合,从而提高了晶圆表面的硅原子悬挂键的键合。

技术领域

本发明涉及的是一种半导体领域的技术,具体是一种提高硅原子的悬挂键键合的方法。

背景技术

自上世纪60年代末期,美国贝尔实验室提出固态成像器件概念后,固体图像传感器便得到了迅速发展,成为传感技术中的一个重要分支。它是个人计算机多媒体不可缺少的外设,也是监控设备中的核心器件。

近年来,由于集成电路设计技术和工艺水平的提高,CMOS图像传感器(CMOS ImageSensor,CIS)因其固有的诸如像元内放大、列并行结构,集成度高、采用单电源和低电压供电、成本低和技术门槛低等特点得到更广泛地应用。同时,低成本、单芯片、功耗低和设计简单等优点使CIS在保安监视系统、可视电话、可拍照手机、玩具、汽车和医疗电子等低端像素产品领域中大出风头。

CMOS图像传感器,是一种典型的固体成像传感器。CMOS图像传感器通常由像敏单元阵列、行驱动器、列驱动器、时序控制逻辑、AD转换器、数据总线输出接口、控制接口等几部分组成,这几部分通常都被集成在同一块硅片上。其工作过程一般可分为复位、光电转换、积分、读出几部分。

CIS晶圆上的白色像素(White Pixel,WP)的数量是指在无光照条件下CIS器件输出的DN(Digital Number,DN)值大于64的像素数量,它是评估CIS器件性能的一个重要指标,直接反应器件成像质量。因此,提高CIS器件WP性能,即降低白色像素点数量是CIS器件制造工艺的一个长期目标。

悬挂键是化学键。一般晶体因晶格在表面处突然终止,在表面的最外层的每个原子将有一个未配对的电子,即有一个未饱和的键,这个键称为悬挂键。

制备CIS过程中,在高K介质层之下的硅界面处硅原子与氧原子键合形成二氧化硅层。然而,在现有的CIS制程工艺中,硅界面的硅原子的悬挂键形成键合的原子来源较少且缺乏键合动力,造成硅界面间悬挂键的键合程度较低,导致器件白色像素较多,降低了整个CIS的性能。

发明内容

本发明针对现有技术存在的上述不足,提出一种提高硅原子的悬挂键键合的方法,通过在保护层表面通以氧化气体,氧化气体中的氧离子穿透介质层到达晶圆表面,再经过高温退火处理后,使得晶体表面的硅原子不饱和键和氧离子键合,从而提高了晶圆表面的硅原子悬挂键的键合。

本发明是通过以下技术方案实现的:

本发明涉及一种提高硅原子的悬挂键键合的方法,其中,包括以下步骤:

步骤S1,对一晶圆表面进行氧化,形成一氧化硅层,所述氧化硅层的上表面具有悬挂键;

步骤S2,于所述氧化硅层的上表面设置一介质层;

步骤S3,在预设的第一温度下对所述介质层的表面进行富氧化处理;

步骤S4,于所述介质层的上表面设置一保护层;

步骤S5,对所述晶圆进行退火处理。

优选的,该提高硅原子的悬挂键键合的方法,其中,所述退火处理的温度范围为250~1400℃。

优选的,该提高硅原子的悬挂键键合的方法,其中,所述介质层为高K介质层。

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