[发明专利]掩模板组件及其制备方法有效
申请号: | 201810383075.0 | 申请日: | 2018-04-25 |
公开(公告)号: | CN108277455B | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | 郭远征;肖志慧;王菲菲;田宏伟 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王静 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 模板 组件 及其 制备 方法 | ||
1.一种掩模板组件,包括:
第一掩模板,所述第一掩模板包括与至少一个显示面板的有效显示区内的像素图案对应的图形;
第二掩模板,所述第二掩模板包括与所述至少一个显示面板的有效显示区的外围图案对应的图形,其中所述第二掩模板设置在所述第一掩模板上方,
其中所述第二掩模板的材料的热膨胀系数为第一掩模板的材料的热膨胀系数的0.9至1.1倍,并且在第一掩模板的下方设置边框。
2.根据权利要求1所述的掩模板组件,其中所述显示面板的外围图案为规则图案或带有倒圆角的图案。
3.根据权利要求1-2中任一项所述的掩模板组件,其中所述第二掩模板是用于形成至少一个显示面板的有效显示区的外围图案对应的图形的掩模并且由聚酰亚胺材料制成。
4.根据权利要求1-2中任一项所述的掩模板组件,其中所述第一掩模板是精密金属掩模板并且由因瓦合金材料制成。
5.根据权利要求1-2中任一项所述的掩模板组件,其中所述第二掩模板为单独的掩模或通过涂覆方式和光刻工艺形成在第一掩模板上的掩模。
6.根据权利要求1-2中任一项所述的掩模板组件,其中所述第二掩模板的厚度在5微米至10微米的范围内。
7.根据权利要求1-2中任一项所述的掩模板组件,其中所述第二掩模板的图形位于所述第一掩模板的像素掩模区域中。
8.一种制造掩模板组件的方法,包括:
提供所述第一掩模板,其中所述第一掩模板包括与至少一个显示面板的有效显示区内的像素图案对应的图形;
将第二掩模板设置在所述第一掩模板的像素掩模区域中,其中所述第二掩模板包括与所述至少一个显示面板的有效显示区的外围图案对应的图形,其中所述第二掩模板设置在所述第一掩模板上方,
其中所述第二掩模板的材料的热膨胀系数为第一掩模板的材料的热膨胀系数的0.9至1.1倍,并且在第一掩模板的下方设置边框。
9.根据权利要求8所述的方法,其中在所述第二掩模板由聚酰亚胺制成时,所述将第二掩模板设置在所述第一掩模板的像素掩模区域中的步骤包括:
将聚酰亚胺涂覆到所述第一掩模板的像素掩模区域之上以形成聚酰亚胺层;
对所述聚酰亚胺层进行光刻工艺以形成所述第二掩模板。
10.根据权利要求8所述的方法,其中所述显示面板的外围图案为规则图案或带有倒圆角的图案。
11.根据权利要求8所述的方法,其中所述第一掩模板是精密金属掩模板并且由因瓦合金材料制成。
12.根据权利要求8所述的方法,其中所述第二掩模板的厚度在5微米至10微米的范围内。
13.根据权利要求8所述的方法,其中在需要更换所述第二掩模板时,所述方法还包括:
剥离已经设置在所述第一掩模板上的第二掩模板;
将聚酰亚胺再次涂覆到所述第一掩模板的像素掩模区域之上以形成另一聚酰亚胺层;
计算对所述掩模板组件中的第一掩模板的应力补偿;
根据所述计算的应力补偿的结果,对所述另一聚酰亚胺层重新进行光刻工艺以调整最终形成的第二掩模板的厚度。
14.根据权利要求9所述的方法,其中在需要更改显示面板的外围图案时,所述方法还包括:
剥离已经设置在所述第一掩模板上的第二掩模板;
将聚酰亚胺再次涂覆到所述第一掩模板的像素掩模区域之上以形成另一聚酰亚胺层;
对所述另一聚酰亚胺层重新进行不同于所述光刻工艺的另一光刻工艺,以形成不同于所述至少一个显示面板的外围图案的另一外围图案。
15.根据权利要求8所述的方法,其中,所述第二掩模板为单独的用于形成至少一个显示面板的有效显示区的外围图案对应的图形的掩模。
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