[发明专利]形成钨膜的方法

权利要求书

1.一种形成钨膜的方法，包括以下工序：

在基板上形成包含金属的不连续膜；以及

在所述基板的未被所述不连续膜覆盖的表面和所述不连续膜上直接形成钨膜，

其中，所述不连续膜由形成于所述基板表面的多处的所述金属的核或岛构成。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述不连续膜包含氮化钛。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，

在形成不连续膜的所述工序中，包括以下步骤：将含有所述金属的第一原料气体和氮化气体交替地同载气一起供给到所述基板。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，

所述第一原料气体为四氯化钛气体。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，

所述氮化气体为氨气。

6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，

所述载气为氮气。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，

在形成钨膜的所述工序中，包括以下步骤：将含有钨的第二原料气体和还原气体交替地同载气一起供给到在上面形成了所述不连续膜的所述基板。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，

所述第二原料气体为六氟化钨气体。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，

在形成钨膜的所述工序中使用的所述还原气体为氢气。

10.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，

在形成钨膜的所述工序中使用的所述载气为稀有气体。