[发明专利]一种用于柔性触控系统的透明绝缘隔离点阵制备方法在审

专利信息
申请号: 201810390440.0 申请日: 2018-04-27
公开(公告)号: CN108646942A 公开(公告)日: 2018-10-12
发明(设计)人: 杨泽芳;程俊飞;季书林 申请(专利权)人: 南京银纳新材料科技有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;C09D11/30
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 代理人: 吴旭
地址: 210000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 点阵 绝缘隔离 制备 触控系统 衬底 透明 蚀刻 表面结构 点阵结构 喷墨打印 硅溶胶 触控 喷涂 选材 隔离 曝光 应用
【权利要求书】:

1.一种用于柔性触控系统的透明绝缘隔离点阵制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤1:选择柔性触控系统的透明导电层或选择独立的透明导电衬底作为所述透明绝缘隔离点阵的衬底;

步骤2:将待制备所述透明绝缘隔离点阵的衬底平铺在喷墨打印机的工作板上;

步骤3:将就位的衬底进行二维平面和一维高度定位;

步骤4:将硅溶胶进行稀释均匀后通过滤嘴注射到墨盒中,然后将墨盒与喷墨打印机喷嘴拼装连接好,装入喷墨打印机中;

步骤5:根据目标透明绝缘隔离点阵的尺寸数据,用设计软件设计点阵图形,所述透明绝缘隔离点阵尺寸数据包括透明绝缘隔离点阵总大小、单点大小、点间距;

步骤6:根据设计的点阵图形控制喷墨打印机工作,并通过同一点阵图形在同一位置重复打印次数来控制透明绝缘隔离点阵中单点的高度;

步骤7:每次打印完毕后自然干燥,多次重复打印完毕后完成制备。

2.根据权利要求1所述的用于柔性触控系统的透明绝缘隔离点阵制备方法,其特征在于,硅溶胶是由直径在5~20nm的SiO2纳米颗粒构成的分散溶液,其pH酸碱性是酸性、中性、碱性中的任一种,SiO2质量百分比为3%~40%,溶液的溶剂为水系溶剂、醇系溶剂或水系溶剂和醇系溶剂以任意比例的混合物,所述水系溶剂为去离子水的水系溶剂,所述醇系溶剂为有机醇溶剂。

3.根据权利要求1所述的用于柔性触控系统的透明绝缘隔离点阵制备方法,其特征在于,所述有机醇溶剂为乙醇、丙醇、乙二醇、丙三醇中的任一种或几种混合。

4.一种用于柔性触控系统的透明绝缘隔离点阵制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤1:选择柔性触控系统的透明导电层或选择独立的透明导电衬底作为所述透明绝缘隔离点阵的衬底;

步骤2:将待制所述透明绝缘隔离点阵的衬底平铺在刚性面板上;

步骤3:制作带有规则孔洞的掩版,孔洞大小是目标透明绝缘隔离点阵的单点大小的80%~95%,孔洞间距与目标透明绝缘隔离点阵的点间距相等,掩版尺寸大于目标透明绝缘隔离点阵的总大小;然后在掩版上制作待喷涂区域的外框;

步骤4:将预制的掩版放置在就位的衬底正上方,并与衬底之间留有间距;

步骤5:将硅溶胶进行稀释均匀后通过滤嘴注射到喷涂仪的液杯里;

步骤6:喷涂仪的喷枪出口垂直面对掩版,调节喷涂气压并按单一方向逐行喷涂;

步骤7:每次喷涂完毕后自然干燥,通过重复喷涂次数来控制透明绝缘隔离点阵中单点的高度,多次重复喷涂完毕后完成制备。

5.根据权利要求4所述的用于柔性触控系统的透明绝缘隔离点阵制备方法,其特征在于,硅溶胶是由直径在5~20nm的SiO2纳米颗粒构成的分散溶液,其pH酸碱性是酸性、中性、碱性中的任一种,SiO2质量百分比为3%~40%,溶液的溶剂为水系溶剂、醇系溶剂或水系溶剂和醇系溶剂以任意比例的混合物,所述水系溶剂为去离子水的水系溶剂,所述醇系溶剂为有机醇溶剂。

6.根据权利要求4所述的用于柔性触控系统的透明绝缘隔离点阵制备方法,其特征在于,所述有机醇溶剂为乙醇、丙醇、乙二醇、丙三醇中的任一种或几种混合。

7.根据权利要求4所述的用于柔性触控系统的透明绝缘隔离点阵制备方法,其特征在于,所述滤嘴的滤孔尺寸为100~500nm,所述掩版与衬底间距为1~5mm,喷涂时喷枪出口与掩版间距为5~10mm、喷涂气压为0.3~0.85MPa。

8.根据权利要求4所述的用于柔性触控系统的透明绝缘隔离点阵制备方法,其特征在于,所述掩版上用3M胶带围成所述待喷涂区域外框,胶带内侧边在衬底上的垂直投影距离导电边界为0.5~2mm。

9.根据权利要求4所述的用于柔性触控系统的透明绝缘隔离点阵制备方法,其特征在于,所述掩版材质为不锈钢、铜、铝、锌、钛、钒、镍、钨、钼中的一种,厚度为0.01~0.05mm。

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