[发明专利]激光开盖的方法、装置、存储介质以及激光开盖设备

权利要求书

1.一种激光开盖的方法，应用于激光开盖设备，其特征在于，包括：

将工件待开盖的区域划分为多个激光蚀刻扫描区；

规划对所述多个激光蚀刻扫描区的加工路径；

获取所述工件的开盖层的厚度以及激光蚀刻扫描的精度值；

根据所述开盖层的厚度和所述精度值计算相邻两个激光蚀刻扫描区在激光蚀刻扫描时理论扫描边界的间距；

对所述多个激光蚀刻扫描区进行激光蚀刻扫描，并且在激光蚀刻扫描时，相邻两个激光蚀刻扫描区的理论扫描边界间隔为所述间距。

2.根据权利要求1所述激光开盖的方法，其特征在于，所述间距与所述开盖层的厚度正相关，并且所述间距大于或者等于零。

3.根据权利要求1所述激光开盖的方法，其特征在于，根据激光蚀刻扫描系统的精度和驱动系统的精度计算所述精度值。

4.根据权利要求1至3任意一项所述激光开盖的方法，其特征在于，所述开盖层的厚度小于或者等于100μm；在同一激光蚀刻扫描区，激光蚀刻扫描的深度为所述开盖层的厚度的1/2至2/3。

5.一种激光开盖的装置，应用于激光开盖设备，其特征在于，包括：

区域划分模块，用于将工件待开盖的区域划分为多个激光蚀刻扫描区；

路径规划模块，用于规划对所述多个激光蚀刻扫描区的加工路径；

获取模块，用于获取所述工件的开盖层的厚度以及激光蚀刻扫描的精度值；

间距计算模块，用于根据所述开盖层的厚度和所述精度值计算相邻两个激光蚀刻扫描区在激光蚀刻扫描时理论扫描边界的间距；

控制模块，用于控制对所述多个激光蚀刻扫描区进行激光蚀刻扫描，并且用于在激光蚀刻扫描时，控制相邻两个激光蚀刻扫描区的理论扫描边界间隔为所述间距。

6.根据权利要求5所述激光开盖的装置，其特征在于，所述间距计算模块计算获得的所述间距与所述开盖层的厚度正相关，并且所述间距大于或者等于零。

7.根据权利要求5所述激光开盖的装置，其特征在于，所述获取模块根据激光蚀刻扫描系统的精度和驱动系统的精度计算所述精度值。

8.根据权利要求5至7任意一项所述激光开盖的装置，其特征在于，所述开盖层的厚度小于或者等于100μm；在同一激光蚀刻扫描区，所述控制模块控制激光蚀刻扫描的深度为所述开盖层的厚度的1/2至2/3。

9.一种非暂态计算机可读的存储介质，其特征在于，所述非暂态计算机可读的存储介质中存储有计算机指令，所述计算机指令适于处理器加载，以实现权利要求1至4任意一项所述激光开盖的方法。

10.一种激光开盖设备，包括激光蚀刻扫描系统和驱动系统，所述驱动系统驱动所述激光蚀刻扫描系统对工件待开盖的区域进行激光蚀刻扫描，其特征在于，所述激光开盖设备实现权利要求1至4任意一项所述激光开盖的方法。