[发明专利]一种可分散的石墨烯插层化合物的制备方法有效
| 申请号： | 201810411857.0 | 申请日： | 2018-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN108516540B | 公开（公告）日： | 2020-12-08 |
| 发明（设计）人： | 苗中正 | 申请（专利权）人： | 盐城师范学院 |
| 主分类号： | C01B32/19 | 分类号： | C01B32/19;C01B32/194 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 224000 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 分散 石墨 烯插层 化合物 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种可分散的石墨烯插层化合物的制备方法，包括如下步骤：
(1)将溴化碘与石墨混合加热制备三阶石墨插层化合物，三阶石墨插层化合物经高温处理，插层剂溴化碘分解产生气体剥离石墨片层得到三原子层高质量石墨烯材料，利用三氯化铁作为插层剂，运用熔融盐法对三层高质量石墨烯进行插层，得到三层石墨烯插层化合物；
(2)采用氧化剂和浓酸对三层石墨烯插层化合物的外侧与边缘进行氧化，得到可分散在常见溶剂中的三层石墨烯插层化合物。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中的溴化碘作为三阶石墨插层化合物的插层剂。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中的石墨为高定向热解石墨、鳞片石墨、微晶石墨、10～150目膨胀石墨。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中的溴化碘与石墨混合加热的温度为100℃。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中的高温处理温度为800℃。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中的氧化剂为氯酸盐、高氯酸盐、高锰酸盐、重铬酸盐、过氧化钠。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中的浓酸为浓硫酸、浓硝酸或者二者的混合物。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中的氧化时间为1～24h，氧化温度为0～80℃。
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