[发明专利]利用电浆辅助化学气相沉积法在隐形眼镜上制备薄膜的方法在审
申请号: | 201810428332.8 | 申请日: | 2018-05-07 |
公开(公告)号: | CN110453193A | 公开(公告)日: | 2019-11-15 |
发明(设计)人: | 林文宾;王孟菊 | 申请(专利权)人: | 亨泰光学股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/02 | 分类号: | C23C16/02;C23C16/50 |
代理公司: | 11139 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 孙皓晨;马鑫<国际申请>=<国际公布>= |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;TW |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 隐形眼镜 基材表面 甲基丙烯酸聚乙二醇酯 乙烯基 吡咯酮 薄膜 电浆辅助化学气相沉积 亲水性 沉积 蛋白质沉淀 亲水性功能 表面改质 改质处理 镜片表面 气体状态 使用寿命 官能基 经验证 舒适度 电浆 交联 沾污 加热 制备 | ||
本发明公开了一种利用电浆辅助化学气相沉积法在隐形眼镜上制备薄膜的方法,是先对隐形眼镜的基材表面进行电浆改质处理,以使基材表面形成具亲水性功能的官能基,再将甲基丙烯酸聚乙二醇酯及N-乙烯基-2-吡咯酮加热成气体状态,便可利用电浆辅助化学气相沉积法,将甲基丙烯酸聚乙二醇酯及N-乙烯基-2-吡咯酮沉积于基材表面上,以使基材表面形成薄膜,进而对于隐形眼镜进行表面改质,进而可借助薄膜使隐形眼镜同时具有良好的亲水性及抗沾污能力,且因甲基丙烯酸聚乙二醇酯与N-乙烯基-2-吡咯酮沉积后,彼此间会形成交联,所以便可延长隐形眼镜的亲水性时间,且本发明经验证可减少蛋白质沉淀在镜片表面,借此达到增加整体舒适度及使用寿命的效果。
技术领域
本发明涉及一种利用电浆辅助化学气相沉积法在隐形眼镜上制备薄膜的方法,特别涉及隐形眼镜的基材表面经由电浆改质处理及电浆辅助化学气相沉积法后,可使基材表面形成薄膜,以借此薄膜使隐形眼镜具有良好的亲水性及抗沾污能力的方法。
背景技术
随着各种电子、电气产品的研发、创新,带给人们在日常生活及工作上许多便捷,尤其是3C电子产品的大量问世,更造成在通讯及因特网的应用的普及化,以致许多人沉浸在3C电子产品的使用领域中,长时间大量应用3C电子产品,不论是上班族、学生族群或是中老年人等,涵盖的范围也相当广泛,进而衍生出低头族的现象,也因此造就许多人的眼睛视力减损、伤害等情况日趋严重,近视人口也就相对提高。
再者,目前人们为了解决近视的困扰,大多会配戴近视眼镜、配戴近视隐形镜片、角膜近视手术或配戴角膜塑型镜片矫正,然而,一般厂商会在隐形眼镜表面做电浆表面改质处理,以提升隐形眼镜的亲水性,但是,此亲水性效果大多只能维持1~2星期左右,其主要原因大致上有下列几项:
(1)镜片在电浆表面改质处理期间及电浆表面改质处理后,所产生的化学基团为了最小化表面能及回到热平衡的状态会进行重组(re-arrangement),由此产生疏水性回复现象。
(2)当经由电浆表面改质处理后的镜片表面接触空气时,其镜片表面即会产生新的氧化及降解反应,因而产生疏水性回复现象。
(3)为了以较低的表面能达成更稳定的热平衡状态,所以低分子量的氧化分子会移向镜片内部,进而产生疏水性回复现象。
(4)未经改质的低分子量物种(species)及大分子(macromolecules)会从镜片内部移向表面,因此促进疏水性回复的程度及在表面形成低表面能的低分子层。
(5)镜片表面的极性化学基团产生重新转向(reorientation)的情形。
(6)基材表面粗糙度增加(the relaxation of the surface roughness)。
由于上述的原因,隐形眼镜经由电浆表面改质处理经过一星期后,其表面的接触角便会逐渐增加,而变成疏水性表面,而在约第10~14天时,则会回复至和未经电浆处理隐形眼镜相同的接触角,而当配戴者配戴疏水性镜片时,配戴者的眼球即会感受到不适的异物感,以致于影响配戴者继续配戴隐形眼镜的意愿,且疏水性镜片亦容易供沉淀物贴附,其沉淀物不仅会影响配戴者的视力、配戴镜片的舒适度及镜片表面润湿度,又沉淀物中的蛋白质沉淀亦可做为细菌成长的温床,而当沉淀在镜片表面的蛋白质随着时间变性时,可能会诱发人体免疫反应,进而造成巨大乳突状结膜炎(Giant Papillary Conjunctivitis)、急性红眼等角膜感染征象,导致配戴者无法配戴隐形眼镜,况且,由于目前沉淀物无法借助隐形眼镜清洁剂完全去除,所以时间一久,沉淀物便会与隐形眼镜本身材质结合,因此会缩短隐形眼镜的使用寿命,导致隐形眼镜损坏。
因此,要如何设法解决上述现有技术中存在的缺失与不便,即为从事此行业的相关业者所亟欲研究改善的方向所在。
发明内容
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的