[发明专利]一种表面包覆的氧化镁坩埚的制备方法在审
| 申请号： | 201810435536.4 | 申请日： | 2018-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN108546091A | 公开（公告）日： | 2018-09-18 |
| 发明（设计）人： | 董波 | 申请（专利权）人： | 肃北镁弘科技有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/043 | 分类号： | C04B35/043;C04B35/66;C04B35/622;C04B41/87 |
| 代理公司： | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人： | 周蕾 |
| 地址： | 736300 甘肃省*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氧化镁坩埚 烧结 表面包覆 铝溶胶 热处理 浸渍法 烧结炉 包覆 制备 延长使用寿命 转入 抽真空排气 等静压成型 电熔氧化镁 表面形成 干燥处理 高纯净度 耐侵蚀性 有效减少 保护层 结合剂 坯体 完气 坩埚 配方 | ||
1.一种表面包覆的氧化镁坩埚的制备方法，其特征在于：包含以下步骤：
（1）选取具有一定颗粒级配方的电熔氧化镁为原料，加入结合剂并混合均匀后，采用等静压成型，坯体经干燥后，转入烧结炉中进行热处理烧结，烧结完成后即可得到氧化镁坩埚；
（2）采用浸渍法对所述氧化镁坩埚进行铝溶胶包覆，包覆完成进行干燥处理后，转入所述烧结炉中抽真空排气，排完气后进行热处理烧结，烧结完成后即可得到表面包覆的氧化镁坩埚。
2. 根据权利要求1所述的一种表面包覆的氧化镁坩埚的制备方法，其特征在于：所述电熔氧化镁的颗粒级配方为：粒度为2—1 mm的电熔氧化镁20—40%，粒度为1—0.5mm的电熔氧化镁10—40%，粒度不超过0.5mm的电熔氧化镁20—70%。
3.根据权利要求1所述的一种表面包覆的氧化镁坩埚的制备方法，其特征在于：所述结合剂为羧甲基纤维素钠（CMC）、聚乙烯醇缩丁醛（PVB）、硅酸钠和硫酸镁中的至少一种。
4.根据权利要求1或3所述的一种表面包覆的氧化镁坩埚的制备方法，其特征在于：所述结合剂的重量百分含量为4—5%。
5.根据权利要求1所述的一种表面包覆的氧化镁坩埚的制备方法，其特征在于：所述等静压成型的条件为：在180—240MPa的压力下持续保压10—20min。
6.根据权利要求1所述的一种表面包覆的氧化镁坩埚的制备方法，其特征在于：所述坯体的干燥及热处理烧结条件为：在110℃下持续干燥12小时，在1750—1800℃下进行热处理烧结2小时。
7.根据权利要求1所述的一种表面包覆的氧化镁坩埚的制备方法，其特征在于：所述包覆后的氧化镁坩埚的干燥及热处理烧结条件为：在110℃下持续干燥12小时，在1400—1600℃下进行热处理烧结2小时。
8.根据权利要求1所述的一种表面包覆的氧化镁坩埚的制备方法，其特征在于：所述烧结炉为箱式炉、管式炉、马弗炉、气氛炉、井式炉、程控炉等高温炉中的任意一种。
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