[发明专利]一种二氧化锗连续氢还原方法有效
申请号: | 201810437622.9 | 申请日: | 2018-05-09 |
公开(公告)号: | CN108546832B | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 陈建国 | 申请(专利权)人: | 衡阳恒荣高纯半导体材料有限公司 |
主分类号: | C22B41/00 | 分类号: | C22B41/00;C22B5/12 |
代理公司: | 长沙市融智专利事务所(普通合伙) 43114 | 代理人: | 张伟;魏娟 |
地址: | 421000 湖南省衡*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化 连续 还原 方法 | ||
1.一种二氧化锗连续氢还原方法,将二氧化锗装入石墨舟中,连续从管状炉一端进入,在逆流氢气气流中,依次经过预热、还原和熔化,从管状炉另一端连续输出还原锗,其特征在于:所述石墨舟设计成连体双舟,石墨舟截面设计为方形,且石墨舟深度不超过40mm;所述管状炉内设有双炉管,所述炉管截面为方形,且炉管内设有石墨保护套管;所述管状炉从入料端至出料端依次分五个温区,第一温区和第二温区为还原区,第三温区和第四温区为融熔区,第五温区为熔化区;第一温区温度控制在655~660℃,第二温区温控制在670~680℃,第三温区温度控制在710~740℃,第四温区温度控制在760~810℃范围内,第五温区为熔化区,温度970~1000℃,各温区的长度为1140~1145mm;连续还原过程中石墨舟在还原区停留时间为9~10小时,在融熔区停留时间9~10小时,在熔化区停留时间为4.5~5小时;连续还原过程中氢气的流量为3~5m3/h;所述二氧化锗由四氯化锗通过连续水解法得到;所述连续水解法制备二氧化锗的过程为:在搅拌条件下,将四氯化锗连续加入水中进行水解反应;参数控制为:1)四氯化锗与水的体积比为1:6~7,2)搅拌转速190~210转/min,3)加料速度控制在60min内,4)水解温度小于23℃。
2.根据权利要求1所述的一种二氧化锗连续氢还原方法,其特征在于:连续还原过程中石墨舟的进舟时间间隔为50~90分钟,舟速5~7mm/min;推舟参数:总时间50~90分、停顿时间40~60秒,运行时间0.4~0.6秒。
3.根据权利要求1所述的一种二氧化锗连续氢还原方法,其特征在于:所述连体双舟的尺寸(300~320)×(200~220)×40mm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于衡阳恒荣高纯半导体材料有限公司,未经衡阳恒荣高纯半导体材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810437622.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。