[发明专利]一种反射型光束分割等比递减器及其制作装置、制作方法在审
申请号: | 201810449894.0 | 申请日: | 2018-05-11 |
公开(公告)号: | CN108692920A | 公开(公告)日: | 2018-10-23 |
发明(设计)人: | 吴冰静;张敏;齐文博;薛艳博;李奇;何俊华 | 申请(专利权)人: | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02;G02B5/08 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 杨引雪 |
地址: | 710119 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 等比 光束分割 递减器 反射型 固定底座 制作装置 单孔光阑 光阑 压板 制作 测量 等间距分布 镀膜区域 分幅相机 光阑设置 脉冲展宽 激光器 反射率 反射面 反射膜 光阑孔 上端 镀膜 卡槽 滤片 递减 反射 | ||
本发明涉及一种反射型光束分割等比递减器及其制作装置、制作方法,解决现有分幅相机的动态范围通过台阶滤片测量,导致激光器的脉冲展宽,降低测量精度的问题。该反射型光束分割等比递减器包括基体,基体的一面为反射面,反射面上镀有等间距分布、反射率等比递减的多种反射膜。同时,本发明还提供一种上述反射型光束分割等比递减器的制作装置及制作方法,该装置包括压板、固定底座、多孔光阑和单孔光阑;固定底座上设置有安装反射型光束分割等比递减器的卡槽,压板设置在固定底座的上端;多孔光阑设置在卡槽的前端,用于设置反射型光束分割等比递减器的镀膜区域;单孔光阑设置在多孔光阑的前端,用于不同光阑孔的镀膜。
技术领域
本发明涉及光学领域,具体涉及一种反射型光束分割等比递减器及其制作装置、制作方法,该反射型光束分割等比递减器可用于X光分幅相机动态范围的测量。
背景技术
在惯性约束聚变诊断的研究中,测量等离子体的温度和密度两维空间分布及其随时间变化是研究的核心,此过程在数纳秒时间内完成,因此超快诊断设备必不可少。其中,X光分幅相机和X光条纹相机由于具有皮秒级别的时间分辨能力,成为最有效的诊断设备之一,它们的各项指标,如动态范围、曝光时间和时间分辨率等标定结果直接影响实验结果的准确性和可靠性。
X光条纹相机的动态范围一般采用光学精密标准具测量。X光分幅相机的动态范围可采用台阶滤片测量,台阶滤片等此类器件多为透射型器件,会对激光器的脉宽产生影响。作为皮秒时间特性系统的精密标定源,激光器的脉宽对相机的动态范围、时间分辨等参数的测量精度有重要的影响。导致激光器脉冲展宽的主要因素为光束传输过程中产生的色散,包括光束传输经过的玻璃介质、膜层介质和大气环境。相较于玻璃介质,膜层介质和真空环境对脉冲展宽的影响可以忽略不计。对于谱宽为1nm的激光器而言,光束传输经过10mm厚的玻璃介质,其脉冲展宽约10%。因此,采用透射型器件台阶滤片测量X光分幅相机的动态范围,易导致激光器的脉冲展宽,降低了测量精度。
发明内容
本发明的目的是解决现有X光分幅相机的动态范围通过台阶滤片测量,导致激光器的脉冲展宽,降低测量精度的问题,提供一种反射型光束分割等比递减器及其制作装置、制作方法。相较于透射型器件,反射型光束分割等比递减器为反射型器件,降低了对激光器脉宽的影响。本发明方法是一种镀等间距分布、强度递减的多种膜层的镀膜方法。
本发明的技术方案是:
一种反射型光束分割等比递减器,包括基体,所述基体的一面为反射面,所述反射面上镀有等间距分布、反射率等比递减的多种反射膜。
进一步地,所述反射膜为六种。
进一步地,第一种反射膜的反射率大于95%,其余五种反射膜的反射率按40%依次递减。
进一步地,所述基体采用玻璃或金属材料制作。
进一步地,所述基体为立方体。
进一步地,所述基体除反射面外的其他表面为毛面或带有楔角的面,毛面或带有楔角的面可有效地避免反射光对子光束的干扰。
同时,本发明还提供一种制作上述反射型光束分割等比递减器的装置,该装置包括压板、固定底座、多孔光阑和单孔光阑;所述固定底座上设置有安装反射型光束分割等比递减器的卡槽,所述压板设置在固定底座的上端,用于压紧反射型光束分割等比递减器;所述多孔光阑设置在卡槽的前端,用于设置反射型光束分割等比递减器的镀膜区域;所述单孔光阑设置在多孔光阑的前端,用于不同光阑孔的镀膜。
进一步地,所述单孔光阑两侧均设有腰型槽,用于单孔光阑的平移。
进一步地,所述多孔光阑通过螺钉固定设置在固定底座上。
此外,本发明还提供一种利用上述装置制作反射型光束分割等比递减器的方法,包括以下步骤:
1)将基体安装在固定底座的卡槽中,上方用压板压紧;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院西安光学精密机械研究所,未经中国科学院西安光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810449894.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:镜头热透镜效应检测方法
- 下一篇:摄像模组解析力与镜头解析力核准方法