[发明专利]阵列基板及制作方法、显示面板及制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括至少一个用于为硬件结构提供安装空间的安装槽，以及贯穿所述阵列基板部分膜层的封装预留区；

所述安装槽在垂直于所述阵列基板的方向上贯穿所述阵列基板，所述封装预留区围绕所述安装槽设置。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括衬底基板、设置于所述衬底基板的薄膜晶体管，以及设置于所述薄膜晶体管上的阳极和功能膜层；所述功能膜层至少包括像素限定层；

所述安装槽在垂直于所述衬底基板的方向上贯穿所述衬底基板及阵列基板上的各膜层；

所述封装预留区贯穿所述功能膜层。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述安装槽的边缘与其相邻的所述功能膜层的边界界定出所述封装预留区；

所述安装槽的边缘距与其相邻的所述功能膜层的边界的距离为80～150μm。

4.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，阵列基板包括至少一个开槽区及围绕所述开槽区设置的封装预留区；所述封装预留区贯穿所述阵列基板的部分膜层；

所述方法包括：

在开槽区开设用于为硬件结构提供安装空间的安装槽；所述安装槽在垂直于所述阵列基板的方向上贯穿所述阵列基板。

5.根据权利要求4所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述方法还包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上依次形成薄膜晶体管、阳极及功能膜层，使所述功能膜层具有贯穿其的镂空图案，以形成所述封装预留区；所述功能膜层至少包括像素限定层。

6.根据权利要求4所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上依次形成薄膜晶体管、阳极及功能膜层；

去除位于封装预留区的功能膜层；所述功能膜层至少包括像素限定层。

7.显示面板，其特征在于，包括阵列基板、有机发光单元及封装层，所述阵列基板包括至少一个用于为硬件结构提供安装空间的安装槽，以及贯穿所述阵列基板部分膜层的封装预留区；所述安装槽在垂直于所述阵列基板的方向上贯穿所述阵列基板，所述封装预留区围绕所述安装槽设置；

所述有机发光单元形成于所述阵列基板上，且位于所述安装槽及所述封装预留区外，所述封装层形成于所述有机发光单元背离所述阵列基板的一侧；

所述封装预留区设置有预设厚度的封装层材料，所述预设厚度的封装层材料至少覆盖与所述安装槽的边缘相邻的所述有机发光单元的侧面。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括衬底基板、设置于所述衬底基板的薄膜晶体管，以及设置于所述薄膜晶体管上的阳极和功能膜层；所述封装预留区贯穿所述功能膜层；所述功能膜层至少包括像素限定层；

所述安装槽在垂直于所述衬底基板的方向上贯穿所述衬底基板及阵列基板上的各膜层；

所述封装层材料至少覆盖与所述安装槽的边缘相邻的所述功能膜层及所述有机发光单元。

9.显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一阵列基板；阵列基板包括至少一个用于为硬件结构提供安装空间的安装槽，以及贯穿所述阵列基板部分膜层的封装预留区；所述安装槽在垂直于所述阵列基板的方向上贯穿所述阵列基板，所述封装预留区围绕所述安装槽设置；

在阵列基板上的安装槽及封装预留区外形成所述有机发光单元；

在所述有机发光单元背离所述阵列基板的一侧形成封装层，且在所述封装预留区形成有预设厚度的封装层材料；所述预设厚度的封装层材料至少覆盖与所述安装槽的边缘相邻的所述有机发光单元的侧面。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权要求7或8所述的显示面板。