[发明专利]一种光学膜片的制备方法、背盖及电子设备

权利要求书

1.一种光学膜片的制备方法，其特征在于，包括：

获取预设光学结构的模具，所述预设光学结构为多层次的光学图形结构，包括底层、光柱纹层、N层闪点层；

将预定尺寸的第一防爆膜贴合在所述模具内，通过转印工艺将所述预设光学结构对应的纹理转印至所述第一防爆膜上，以形成具有纹理面的第二防爆膜；

通过光学镀膜工艺，在所述第二防爆膜的纹理面上镀制电镀层，以形成第三防爆膜；

通过丝网印刷工艺，将所述第三防爆膜的电镀层所在面印制成预定色彩的油墨层，以形成第四防爆膜；

将所述第四防爆膜放置在镭雕机平台内，进行镭雕成型。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述底层为预设几何图形的交错纹层；

所述光柱纹层铺设在所述底层上；

所述N层闪点层铺设在所述光柱纹层上；

其中，所述N层闪点层中的第一闪点层至第M闪点层为正视角闪点层，第M+1闪点层至第P闪点层为左侧视角闪点层，第P+1闪点层至第Q闪点层为右侧视角闪点层，N≥Q＞P＞M，且N、Q、P和M为正整数。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述将预定尺寸的第一防爆膜贴合在所述模具内之前，还包括：

采用渐变印刷工艺将所述第一防爆膜的一面制成渐变效果面；

所述将预定尺寸的第一防爆膜贴合在所述模具内，包括：

将所述第一防爆膜的渐变效果面贴合在所述模具内。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述采用渐变印刷工艺将所述第一防爆膜的一面制成渐变效果面，包括：

采用由周围向中心渐变4.5MM，由下向上渐变100MM的渐变丝印文件，制备印刷版；

根据所述印刷版，将所述第一防爆膜的一面制成渐变效果面。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将预定尺寸的第一防爆膜贴合在所述模具内，通过转印工艺将所述预设光学结构对应的纹理转印至所述第一防爆膜上，以形成具有纹理面的第二防爆膜，包括：

在所述模具内注入转印胶液，以形成转印胶层；

将所述第一防爆膜放在具有所述转印胶层的模具内；

通过压制工艺将所述第一防爆膜与所述转印胶层压合，以将所述预设光学结构对应的纹理转印至所述第一防爆膜上；

通过固化工艺固化所述第一防爆膜和所述转印胶层，形成具有纹理面的第二防爆膜。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过光学镀膜工艺，在所述第二防爆膜的纹理面上镀制电镀层，以形成第三防爆膜，包括：

将所述第二防爆膜放置在预设光学度参数的光学镀炉内，对所述第二防爆膜的纹理面以50mins-60mins时长镀制电镀层，形成第三防爆膜。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过丝网印刷工艺，将所述第三防爆膜的电镀层所在面印制成预定色彩的油墨层，以形成第四防爆膜，包括：

将目数为350的丝网网版覆盖在所述第三防爆膜的电镀层上；

在所述丝网网版上印刷预定色彩的油墨后，以预设温度烘烤预设时间，形成第四防爆膜；

其中，所述预设温度的范围为30-50度，所述预设时间的范围为40-50mins。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将所述第四防爆膜放置在镭雕机平台内之前，还包括：

将所述第四防爆膜的油墨层所在面覆盖保护膜。

9.一种背盖，其特征在于，包括：

盖体，所述盖体的材质为玻璃或亚克力材质；所述盖体表面覆盖有光学膜片，所述光学膜片是基于上述权利要求1-8中任一项所述的光学膜片的制备方法生成的。

10.一种电子设备，其特征在于，包括：上述权利要求9所述的背盖。