[发明专利]用于形成碳纳米管防护件薄膜的方法

权利要求书

1.一种形成用于极紫外线光刻掩模板的碳纳米管防护件薄膜的方法，所述方法包括：

通过将至少一个碳纳米管薄膜压制在第一按压表面和第二按压表面之间来将所述至少一个碳纳米管薄膜的重叠碳纳米管结合在一起，由此形成碳纳米管防护件薄膜，

其中，第一按压表面或第二按压表面中的至少一个设置有突出图案，并且

其中，所述突出图案的间距小于所述至少一个碳纳米管薄膜的重叠碳纳米管的平均长度。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述突出图案的间距小于所述至少一个碳纳米管薄膜的碳纳米管束的平均长度。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在第一按压表面和第二按压表面之间压制至少两个单独的碳纳米管薄膜。

4.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括：在压制所述至少一个碳纳米管薄膜之前，在所述至少一个碳纳米管薄膜上形成涂层。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，形成涂层包括形成包含选自下组的至少一种材料的涂层：B、B₄C、ZrN、Mo、Ru、SiC、TiN和a-C。

6.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述压制至少一个碳纳米管薄膜包括施加0.1kPa至30MPa的压力。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一个碳纳米管薄膜的重叠碳纳米管在碳纳米管重叠位置处直接接触。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，突出图案由粗糙表面、一组突出针状物、线图案、正方形网格、或六边形网格形成。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述突出图案的间距为200nm至200μm。

10.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括：在压制所述至少一个碳纳米管薄膜的同时，加热所述至少一个碳纳米管薄膜。

11.如权利要求1所述的方法，所述方法进一步包括：

通过将石墨烯薄片沉积在碳纳米管防护件薄膜的主表面上来形成石墨烯薄片涂层。

12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，石墨烯薄片沿着其主表面的横向尺寸为75nm至50μm。

13.如权利要求11所述的方法，其特征在于，形成石墨烯薄片涂层还包括：对碳纳米管防护件薄膜进行加热。

14.如权利要求11所述的方法，其特征在于，形成石墨烯薄片涂层还包括：向碳纳米管防护件薄膜和石墨烯薄片施加压力。

15.一种形成用于极紫外线光刻的防护件的方法，所述方法包括：

根据权利要求1所述的方法形成碳纳米管防护件薄膜，并且

将碳纳米管防护件薄膜固定到防护件框上。

16.如权利要求15所述的方法，其特征在于，在碳纳米管防护件薄膜上形成涂层，并且其中，所述固定步骤包括：

将碳纳米管防护件薄膜放置在防护件框的支撑表面上，并且

通过将碳纳米管防护件薄膜和防护件框的支撑表面压向彼此来使碳纳米管防护件薄膜的涂层和防护件框的支撑表面结合在一起，由此将碳纳米管防护件薄膜固定至防护件框的支撑表面。

17.如权利要求16所述的方法，其特征在于，防护件框的支撑表面通过第一材料形成，并且涂层通过第二材料形成，

第一材料是金属或半导体，

第二材料是金属或半导体。