[发明专利]一种纳米改性聚合物基屏蔽膜的制备方法在审
申请号: | 201810461730.X | 申请日: | 2018-05-15 |
公开(公告)号: | CN108659494A | 公开(公告)日: | 2018-10-16 |
发明(设计)人: | 王召惠;杨明忠;陈可 | 申请(专利权)人: | 王召惠 |
主分类号: | C08L69/00 | 分类号: | C08L69/00;C08L27/18;C08K3/22;C08K3/08;C08J5/18;H05K9/00 |
代理公司: | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人: | 朱亲林 |
地址: | 213000 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 屏蔽膜 基材 纳米改性聚合物 苯环 主链 制备 聚四氟乙烯分散乳液 双酚A型聚碳酸酯 纳米氧化锌粉末 腐蚀 强碱 氢氧化钠溶液 制备技术领域 化学稳定性 聚四氟乙烯 氯化锌溶液 化学产品 基材分子 搅拌反应 耐化学性 屏蔽材料 碳酸酯基 外界氧气 温度条件 研磨 环己酮 抗氧化 内旋转 有效地 共混 降解 强酸 侵入 自制 阻碍 抵制 应用 | ||
本发明公开了一种纳米改性聚合物基屏蔽膜的制备方法,属于屏蔽材料制备技术领域。首先将氯化锌溶液和氢氧化钠溶液混合,并在一定温度条件下搅拌反应并研磨得到自制纳米氧化锌粉末,将其与基材和环己酮共混,对基材分子链的氧和降解起保护作用,有利于屏蔽膜的抗氧化得到提高,另外双酚A型聚碳酸酯是由苯环和碳酸酯基构成,其中苯环不能内旋转,构成了主链上的刚性部分,可以阻碍外界氧气的侵入,本发明向基材中加入聚四氟乙烯分散乳液,由于其聚四氟乙烯分子只含有C、F这两种元素这使基材的主链不受外界任何试剂的腐蚀,使其具有良好的化学稳定性,有效地抵制强酸、强碱和多种化学产品的腐蚀,从而提高屏蔽膜的耐化学性,具有广泛的应用前景。
技术领域
本发明公开了一种纳米改性聚合物基屏蔽膜的制备方法,属于屏蔽材料制备技术领域。
背景技术
电子元件对外界的干扰,称为EMI。随着信息和通讯设备的发展,电子电气产品趋于多功能和小型化,随身电子产品数量迅速增加,环境中电磁波污染也日益严重,不但造成各种仪器功能故障和系统错误,也容易对人体产生影响。传统的电池屏蔽材料是基于金属的,具有材料密度高、易腐蚀、吸收频带窄等缺点。因此,对电磁屏蔽材料也提出了轻量化、高屏蔽性能、宽屏蔽频带等要求。2010年,英国曼彻斯特大学的两位教授因为首次成功分离出稳定的石墨烯获得诺贝尔物理学奖,掀起了全世界对石墨烯研究的热潮。石墨烯是一种单分子层二维晶体,具有已知材料最高的强度以及优异的导电性和导热性,是目前最理想的二维纳米材料。
随着电子设备更加轻薄短小,对应用在印刷电路板的材料的小型化的需求进一步地增加,为了适合于高密度的布线,需要高度的设计自由度和优异的柔韧性。此外,由于更高的性能和更快的速度,导致产生高频化的噪声,因此,电磁波屏蔽材料开发的重要性更为突显。这些电子设备的屏蔽方法可分为屏蔽膜方式、将银膏涂布在印刷电路板上的方式、将金属粒子附着在印刷电路板上的溅射方式,但考虑到可加工性、可靠性和高性能化等问题,薄膜形态是有利的。作为以往的电磁波屏蔽膜的一个例子,公开专利号中公开有一种电磁波屏蔽膜,所述电磁波屏蔽膜包含分离膜;由防粘层,即由硬层和软质层构成的双层结构的覆盖膜;金属层及导电性粘接剂层。然而,这样的电磁波屏蔽膜由于覆盖膜为脆性膜,在进行FPCB加工时容易撕裂,随着覆盖膜和金属层剥离,电镀液渗透其中,从而存在耐化学性的问题,还存在抗氧化性差的缺点。因此,发明一种耐化学性好且抗氧化性好的纳米改性聚合物基屏蔽膜对屏蔽材料制备技术领域具有积极意义。
发明内容
本发明所要解决的技术问题:针对目前常见屏蔽膜存在耐化学腐蚀性差和抗氧化差,满足不了市场要求的缺陷,提供了一种纳米改性聚合物基屏蔽膜的制备方法。
为解决上述技术问题,本发明采用如下所述的技术方案是:
一种纳米改性聚合物基屏蔽膜的制备方法,其特征在于具体制备步骤为:
(1)量取27~32mL氯化锌溶液倒入烧杯中,并将烧杯置于水浴锅中水浴处理,再向烧杯中滴加24~27mL氢氧化钠溶液,待滴加结束后,继续保温水浴反应,反应结束后离心分离,去除上清液,得到沉淀固体;
(2)用无水乙醇清洗沉淀固体,并将清洗后的沉淀固体置于烘箱中干燥,自然冷却至室温,得到干燥物,最后将干燥物研磨粉碎后过100目筛,得到自制纳米氧化锌粉末;
(3)将自制纳米氧化锌粉末和环己酮混合置于超声波分散仪中超声分散,得到纳米氧化锌分散液,再将双酚A型聚碳酸酯和环己酮混合搅拌,得到聚合溶液,并将纳米氧化锌分散液滴加到聚合溶液中,待滴加完毕后置于超声波分散仪中,继续超声分散,得到改性双酚A型聚碳酸酯;
(4)按重量份数计,分别称取42~45份改性双酚A型聚碳酸酯、10~12份聚四氟乙烯分散乳液、4~6份琥珀粉、2~4份镍粉和1~3份铜粉混合置于混炼机中混炼,冷却出料,得到自制膜液,再将自制膜液涂抹在洁净的石英片基底上,并放入0~2℃的无水乙醇中自然固化,揭膜,即得纳米改性聚合物基屏蔽膜。
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