[发明专利]转印模板的制作方法和转印方法、彩膜基板的制作方法

权利要求书

1.一种转印模板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括以下步骤：

S1：在第一基板(10)的第一表面上涂覆水凝胶前驱体(20)；其中，所述第一基板(10)的第一表面上被图案化地形成凹槽(11)，所述水凝胶前驱体(20)的部分填充于所述凹槽(11)内；

S2：将树脂基板(30)覆盖在所述水凝胶前驱体(20)上；

S3：对所述水凝胶前驱体(20)进行固化处理，以形成水凝胶(20a)；

S4：使所述水凝胶(20a)与所述第一基板(10)分离，以得到转印模板。

2.根据权利要求1所述的转印模板的制作方法，其特征在于，所述步骤S3具体包括：

将所述第一基板(10)加热，以使所述水凝胶前驱液(20)固化成水凝胶(20a)；

将所述第一基板(10)和所述水凝胶(20a)退火至室温。

3.根据权利要求1所述的转印模板的制作方法，其特征在于，所述第一基板(10)为金属基板。

4.根据权利要求1所述的转印模板的制作方法，其特征在于，所述水凝胶(20a)为琼脂糖水凝胶或聚异丙基丙烯酰胺水凝胶。

5.根据权利要求1至4任一项所述的转印模板的制作方法，其特征在于，所述步骤S4具体包括：

将所述第一基板(10)加热，以使所述水凝胶(20a)与所述第一基板(10)分离；

将贴合所述水凝胶(20a)的所述树脂基板(30)拉离所述第一基板(10)；其中，彼此贴合的所述水凝胶(20a)和所述树脂基板(30)构成所述转印模板(300)。

6.一种应用权利要求1至5任一项所述的制作方法制作的转印模板(300)转印纳米材料的方法。

7.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：在基板(50)上制作形成黑色矩阵(60)，所述黑色矩形(60)在所述基板(50)上限定出多个子像素区(61)；

S2：利用权利要求1至5任一项所述的制作方法制得的转印模板(300)将单色量子点转印至对应的所述子像素区(61)内，以在对应的所述子像素区(61)内形成单色量子点光阻层(80)；

S3：在所述单色量子点光阻层(80)和所述黑色矩阵(60)上制作形成平坦层(90)。

8.根据权利要求7述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，步骤S2具体包括步骤：

利用所述转印模板(300)的水凝胶(20a)从含有所述单色量子点的氯仿分散液(40)中吸收所述单色量子点；

将所述水凝胶(20a)中的所述单色量子点释放至对应的所述子像素区(61)内的氯仿溶液(70)中；

对所述基板(50)进行加热，以去除对应的所述子像素区(61)内的所述氯仿溶液(70)。

9.根据权利要求8述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述水凝胶(20a)包括板体(21)和设于所述板体(21)上的凸起(22)；

其中，利用所述转印模板(300)的水凝胶(20a)从含有所述单色量子点的氯仿分散液(40)中吸收所述单色量子点的具体方法为：将所述凸起(22)浸泡在含有所述单色量子点的所述氯仿分散液(40)中以吸收所述单色量子点；

其中，将所述水凝胶(20a)中的所述单色量子点释放至对应的所述子像素区(61)内的所述氯仿溶液(70)中的方法具体包括：

将所述转印模板(300)与所述基板(50)对位；

将吸附有所述单色量子点的所述凸起(22)插设于所述像素区(61)内，且所述凸起(22)浸泡至所述像素区(61)内的所述氯仿溶液(70)中，以使所述凸起(22)中的单色量子点释放至所述氯仿溶液(70)中。

10.根据权利要求9述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，将所述凸起(22)浸泡至所述氯仿溶液(70)之后，所述制作方法还包括：加热所述基板(50)，以加快所述凸起(22)中的单色量子点释放至所述氯仿溶液(70)中。