[发明专利]转印模板的制作方法和转印方法、彩膜基板的制作方法

说明书

本发明公开了转印模板的制作方和转印方法以及彩膜基板的制作方法。转印模板的制作方法包括：在第一基板的第一表面上涂覆水凝胶前驱体，第一基板的第一表面上被图案化地形成凹槽，水凝胶前驱体的部分填充于凹槽内；将树脂基板覆盖在水凝胶前驱体上；对水凝胶前驱体进行固化处理，以形成水凝胶；使水凝胶与第一基板分离，以得到转印模板。彩膜基板的制作方法包括：在基板上制作形成黑色矩阵，黑色矩形限定出多个子像素区；利用上述的制作方法制得的转印模板将单色量子点转印至子像素区内以在子像素区内形成单色量子点光阻层；在基板上制作形成平坦层，平坦层覆盖黑色矩阵和单色量子点光阻层。上述制作方法可保持量子点的初始荧光效率。

技术领域

本发明属于半导体技术领域，具体地讲，涉及一种转印模板的制作方法和转印方法、彩膜基板的制作方法。

背景技术

量子点具有窄光谱，高亮度的特点，在电致发光光致发光领域有广泛的应用空间，是近年来备受瞩目的光电新材料。目前量子点应用于显示技术领域的研究主要集中于背光源的优化、量子点光阻的开发、量子点喷墨打印技术的研究等。量子点应用于显示技术最大的问题是量子点在量子点光阻、量子点墨水等制程过程中的荧光淬灭现象，其根本原因是包覆在量子点表面的配体被取代或脱落，导致量子点表面产生缺陷，被激发的电子回落至激发态时被缺陷能及捕获，使其荧光效率下降。因此，保持量子点原始荧光效率是提高量子点显示器件光学性质的关键。

发明内容

为了解决上述现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种能够保持量子点原始荧光效率的转印模板的制作方法和转印方法以及彩膜基板的制作方法。

为了实现上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：

一种转印模板的制作方法，所述制作方法包括以下步骤：

S1：在第一基板的第一表面上涂覆水凝胶前驱体，其中，所述第一基板的第一表面上被图案化地形成凹槽，所述水凝胶前驱体的部分填充于所述凹槽内；

S2：将树脂基板覆盖在所述水凝胶前驱体上；

S3：对所述水凝胶前驱体进行固化处理，以形成水凝胶；

S4：使所述水凝胶与所述第一基板分离，以得到转印模板。

优选地，所述步骤S3具体包括：

将所述第一基板加热，以使所述水凝胶前驱液固化成水凝胶；

将所述第一基板和所述水凝胶退火至室温。

优选地，所述第一基板为金属基板。

优选地，水凝胶为琼脂糖水凝胶或聚异丙基丙烯酰胺水凝胶。

优选地所述步骤S4具体包括：

将所述第一基板加热，以使所述水凝胶与所述第一基板分离；

将贴合所述水凝胶的所述树脂基板拉离所述第一基板；其中，彼此贴合的所述水凝胶和所述树脂基板构成所述转印模板。

本发明还公开了一种应用上述制作方法制作的转印模板转印纳米材料的方法。

本发明还公开了一种彩膜基板的制作方法，包括以下步骤：

S1：在基板上制作形成黑色矩阵，所述黑色矩形在所述基板上限定出多个子像素区；

S2：利用上述的制作方法制得的转印模板将单色量子点转印至所述子像素区内以在所述子像素区内形成单色量子点光阻层；

S3：在所述基板上制作形成平坦层，所述平坦层覆盖所述黑色矩阵和所述单色量子点光阻层。

优选地，步骤S2具体包括：

利用所述转印模板的水凝胶从含有所述单色量子点的氯仿分散液中吸收所述单色量子点；