[发明专利]靶材组件有效
申请号: | 201810476911.X | 申请日: | 2018-05-17 |
公开(公告)号: | CN108486535B | 公开(公告)日: | 2021-03-12 |
发明(设计)人: | 姚力军;潘杰;王学泽;余贵阳 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 吴迪 |
地址: | 315000 浙江省宁波*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组件 | ||
1.一种靶材组件,其特征在于,所述靶材组件包括:
靶材以及托盘,所述托盘用于承载所述靶材,所述托盘上设置有凹槽,所述凹槽用于放置垫圈,所述垫圈用于使得所述靶材与所述托盘之间形成密封。
2.根据权利要求1所述的靶材组件,其特征在于,所述垫圈为O-ring圈。
3.根据权利要求2所述的靶材组件,其特征在于,所述凹槽为燕尾槽。
4.根据权利要求2所述的靶材组件,其特征在于,所述靶材包括正面、背面以及侧面,所述靶材的正面为所述靶材的溅射面,所述靶材的背面与所述靶材的正面位置相对,所述靶材的侧面分别与所述靶材的正面以及所述靶材的背面相邻。
5.根据权利要求4所述的靶材组件,其特征在于,所述靶材的背面与所述托盘的正面连接且所述靶材的侧面与所述托盘的正面相邻,所述靶材的侧面与所述托盘的正面的交界位置设置有经喷砂处理形成的环绕所述溅射面的喷砂区域。
6.根据权利要求5所述的靶材组件,其特征在于,所述喷砂区域的第一喷砂线上的各点到所述溅射面的中心点的距离相同且所述喷砂区域的第二喷砂线上的各点到所述溅射面的中心点的距离相同,其中,所述第一喷砂线为所述喷砂区域的靠近所述溅射面的边界线,所述第一喷砂线为所述喷砂区域的远离所述溅射面的边界线。
7.根据权利要求6所述的靶材组件,其特征在于,所述溅射面与所述靶材的侧面的交界位置被构成为R角。
8.根据权利要求7所述的靶材组件,其特征在于,所述第一喷砂线与所述R角接平。
9.根据权利要求8所述的靶材组件,其特征在于,所述第二喷砂线高出所述托盘的台阶面0.05mm,其中,所述台阶面为所述托盘的正面中未被所述喷砂区域环绕的部分表面。
10.根据权利要求9所述的靶材组件,其特征在于,所述靶材的侧面与垂直于所述溅射面的方向的夹角为15度。
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