[发明专利]一种触发式对位结构的直写式曝光系统及方法有效
| 申请号： | 201810480510.1 | 申请日： | 2018-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN108710266B | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 陈海巍 | 申请（专利权）人： | 江苏影速集成电路装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人： | 张勇 |
| 地址： | 221000 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 触发 对位 结构 直写式 曝光 系统 方法 | ||
1.一种触发式对位结构的直写式曝光系统，其特征在于，所述系统包括：
监测装置和位置获取装置，所述监测装置用于监测待曝光样品的实时位置，并将所述待曝光样品的实时位置输入至所述位置获取装置中，以便在所述待曝光样品运动至预定位置后触发位置获取装置获取所述待曝光样品上对位标记的位置，以便根据所述对位标记的位置对所述待曝光样品进行曝光；
所述预定位置为所述对位标记位于位置获取装置的获取范围内时待曝光样品的位置；所述系统还包括：
计算装置，所述计算装置用于在所述待曝光样品运动至预定位置时记录所述待曝光样品的位置，并根据所述待曝光样品的位置计算所述对位标记在曝光坐标系中的位置。
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统还包括：
承载运动装置，所述承载运动装置用于承载所述待曝光样品并运动至预定位置。
3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统还包括：
曝光装置，所述曝光装置用于根据所述对位标记的位置对所述待曝光样品进行曝光。
4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统应用于单台面设备中。
5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统应用于双台面设备中。
6.一种触发式对位结构的直写式曝光方法，其特征在于，所述方法应用于权利要求1～5任一所述的系统中，所述方法包括：
通过监测装置监测待曝光样品的实时运动位置；
当所述待曝光样品运动至预定位置时，位置获取装置获取所述待曝光样品上对位标记的位置；
根据所述对位标记的位置对所述待曝光样品进行对准曝光；
所述预定位置为所述对位标记位于位置获取装置的获取范围内时待曝光样品的位置。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述获取所述待曝光样品上对位标记的位置包括：
获取所述待曝光样品运动至预定位置时所述待曝光样品的位置；
根据所述待曝光样品的位置计算所述对位标记在曝光坐标系中的位置。
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