[发明专利]一种触发式对位结构的直写式曝光系统及方法

说明书

本发明公开了一种触发式对位结构的直写式曝光系统及方法，属于印刷线路板技术领域。所述系统包括：监测装置、位置获取装置和计算装置。本发明通过将待曝光样品的实时位置信息输入至位置获取装置，以便在待曝光样品运动至预定位置时触发位置获取装置通过获取所述待曝光样品上的对位标记的位置，并同时记录所述待曝光样品的位置，根据该待曝光样品的位置直接计算对位标记在曝光坐标系中的位置，以便根据计算出的对位标记在曝光坐标系中的位置进行曝光，解决了在对位过程中运动平台需要多次启动与停止从而导致的对位时间长和对位精度达不到要求的问题，应用在双面台系统中时，减少了对位时间，提高了对位精度并达到最大的生产稼动率。

技术领域

本发明涉及一种触发式对位结构的直写式曝光系统及方法，属于印刷线路板技术领域。

背景技术

在直写式曝光系统中，多采用CCD/CMOS加光学成像光路组成的对位结构，来进行曝光图形的定位。即根据对位结构所识别PCB基板上的Mark点，来确认所要曝光图形的正确位置。在对位结构对PCB基板进行对位过程中，承载PCB基板的运动平台运动至预先指定的位置，然后停止，软件控制CCD/CMOS开始采集图像，识别Mark点，并计算Mark点在相机视场中的位置，对其进行预定补偿或继续运动该运动平台，直至所计算的Mark点在曝光坐标系中的位置在所设定的阈值范围内。从而对PCB基板进行曝光，其中的预定补偿是根据Mark点在相机视场中的位置做出。

目前在主流的双台面设备中，采用一个台面上下板加对位，另一个台面曝光的方式，循环往复进行，来达到最大的生产稼动率。目前随着曝光方式及工艺的改进，使得曝光速度越来越快，在上述双台面对位与曝光结构中，一个台面的上下板加对位时间远远超出另一个台面的曝光时间，这使得双台面在循环往复的对位曝光中，处于曝光的一个台面，会经常性的出现等待的现象。虽然设备有了更短的曝光时间，但实际的生产速率并没有提升。

另一方面，随着PCB行业的发展，对于对位精度的要求越来越高。上述对位过程中，承载PCB基板的运动平台出现一次或多次的停止与启动动作，例如，将PCB基板放置在运动平台后，运动平台需要运动至预定位置停止，若软件检测到该运动平台没有到达至预定位置或者到达运动位置时Mark点不在CCD/CMOS的视场范围内，该运动平台还需要再次启动并运动，如此反复直至Mark点在曝光坐标系中的位置在所设定的阈值范围内，导致整个对位流程耗时较长，且由于运动平台的多次启动与停止导致对位精度很难满足越来越高的精度要求。

发明内容

为了解决目前存在的对位时间长且由于运动平台的多次停止与启动动作导致的精度达不到要求的问题，本发明提供了一种触发式对位结构的直写式曝光系统及方法，所述技术方案如下：

本发明的第一个目的是提供一种触发式对位结构的直写式曝光系统，所述系统包括：

监测装置和位置获取装置，所述监测装置用于监测待曝光样品的实时位置，并将所述待曝光样品的实时位置输入至所述位置获取装置中，以便在所述待曝光样品运动至预定位置后触发位置获取装置获取所述待曝光样品上对位标记的位置，以便根据所述对位标记的位置对所述待曝光样品进行曝光；

所述预定位置为所述对位标记位于位置获取装置的获取范围内时待曝光样品的位置。

可选的，所述系统还包括：

计算装置，所述计算装置用于在所述待曝光样品运动至预定位置时记录所述待曝光样品的位置，并根据所述待曝光样品的位置计算所述对位标记在曝光坐标系中的位置。

可选的，所述系统还包括：

承载运动装置，所述承载运动装置用于承载所述待曝光样品并运动至预定位置；

可选的，所述系统还包括：

曝光装置，所述曝光装置用于根据所述对位标记的位置对所述待曝光样品进行曝光。

可选的，所述系统应用于单台面设备中。