[发明专利]减反层及其制作方法、显示装置在审
| 申请号： | 201810487273.1 | 申请日： | 2018-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN108693575A | 公开（公告）日： | 2018-10-23 |
| 发明（设计）人： | 胡海峰;曾亭;张明;丁贤林;马伟杰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/18 | 分类号： | G02B1/18;G02B1/11;G09F9/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 姜春咸;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 减反层 材料层 疏水处理 显示装置 微凸起 基板 表面形貌 耐研磨性 显示产品 预定规则 疏水性 膜层 排布 疏水 制作 背离 | ||
1.一种减反层的制作方法，其特征在于，包括：
在基板上形成减反材料层；
对所述减反材料层背离所述基板的表面进行疏水处理，以在所述减反材料层上形成呈预定规则排布的多个微凸起，经过疏水处理后的减反材料层即为所述减反层；其中，所述微凸起沿任意方向的尺寸均小于30nm。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在基板上形成减反材料层的步骤中，所述减反材料层的厚度大于目标厚度；
所述疏水处理包括：
对所述减反材料层进行研磨，直至所述减反材料层达到目标厚度。
3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，对所述减反材料层进行研磨的步骤包括：沿预定方向，采用金属布或抛光液对所述减反材料层进行研磨。
4.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述在基板上形成减反材料层的步骤中，所述减反材料层的厚度与所述目标厚度之差在10nm～100nm之间。
5.根据权利要求1至4中任意一项所述的制作方法，其特征在于，所述减反材料层包括交替叠置的第一膜层和第二膜层，所述微凸起形成在所述第一膜层上；
所述第一膜层为氧化硅层，所述第二膜层为氮化硅层或五氧化二铌层。
6.根据权利要求1至4中任意一项所述的制作方法，其特征在于，在基板上形成减反材料层的步骤中，所述减反材料层采用镀膜工艺形成。
7.一种减反层，包括设置在基板上的减反材料层，其特征在于，所述减反材料层背离所述基板的表面上形成有呈预定规则排布的多个微凸起，所述微凸起沿任意方向的尺寸均小于30nm。
8.根据权利要求7所述的减反层，其特征在于，所述减反材料层包括交替叠置的第一膜层和第二膜层，所述微凸起形成在所述第一膜层上；
所述第一膜层为氧化硅层，所述第二膜层为氮化硅层或五氧化二铌层。
9.一种显示装置，包括显示面板和设置在所述显示面板出光侧的减反层，其特征在于，所述减反层为权利要求7或8所述的减反层，所述减反材料层位于所述基板背离所述显示面板的一侧。
10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，所述减反层背离所述显示面板的一侧还设置有防指纹层。
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