[发明专利]石墨烯实现GaN基HEMT高效散热的倒装结构及方法有效

专利信息
申请号: 201810495597.X 申请日: 2018-05-22
公开(公告)号: CN108682663B 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 赵妙;刘洪刚;张国斌;吴宗刚;常虎东;孙兵 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L23/373 分类号: H01L23/373;H01L29/20;H01L21/335;H01L29/778
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 房德权
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 石墨 实现 gan hemt 高效 散热 倒装 结构 方法
【权利要求书】:

1.一种石墨烯实现GaN基HEMT高效散热的倒装结构,其特征在于,所述倒装封装结构自下而上依次包括基板、形成于所述基板上的绝缘介质层、形成于所述绝缘介质层上的散热层、制备在所述散热层上的源电极焊盘、漏电极焊盘和栅电极焊盘,所述散热层为石墨烯散热层或碳纳米管散热层;所述基板为氮化铝或三氧化二铝;所述石墨烯散热层为图形化的石墨烯散热层;

所述倒装封装结构还包括氮化镓基HEMT器件,所述氮化镓基HEMT器件包括外延层结构和制备在所述外延层结构上的源电极、漏电极和栅电极;

所述源电极、漏电极和栅电极分别与所述源电极焊盘、漏电极焊盘和栅电极焊盘电连接;

所述电连接为通过焊球焊接。

2.如权利要求1所述的石墨烯实现GaN基HEMT高效散热的倒装结构,其特征在于,所述外延层结构包括衬底、形成于所述衬底上的氮化镓高阻缓冲层、形成于所述氮化镓高阻缓冲层上的氮化镓高电子迁移率层、形成于所述氮化镓高电子迁移率层上的铝镓氮势垒层,以及形成于所述铝镓氮势垒层上的钝化层;所述源电极、漏电极和栅电极制备在所述铝镓氮势垒层上。

3.如权利要求2所述的石墨烯实现GaN基HEMT高效散热的倒装结构,其特征在于,所述衬底为碳化硅,蓝宝石或者硅。

4.如权利要求1所述的石墨烯实现GaN基HEMT高效散热的倒装结构,其特征在于,所述绝缘介质层为氮化硼。

5.如权利要求1所述的石墨烯实现GaN基HEMT高效散热的倒装结构,其特征在于,所述源电极为Ti/Al/Ni/Au金属,所述漏电极为Ti/Al/Ni/Au金属,所述栅电极为Ni/Au金属。

6.一种如权利要求1-5中任一所述的石墨烯实现GaN基HEMT高效散热的倒装结构的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

制备氮化镓基HEMT器件,所述氮化镓基HEMT器件包括外延层结构和制备在所述外延层结构上的源电极、漏电极和栅电极;

在基板上制备绝缘介质层;

在所述绝缘介质层上制备散热层,所述散热层为石墨烯散热层或碳纳米管散热层;

在所述散热层上制备源电极焊盘、漏电极焊盘和栅电极焊盘;

将所述源电极、漏电极和栅电极分别与所述源电极焊盘、漏电极焊盘和栅电极焊盘电连接,所述电连接为通过焊球焊接;

当所述散热层为石墨烯散热层时,在所述石墨烯散热层上制备源电极焊盘、漏电极焊盘和栅电极焊盘之前,还包括对所述石墨烯散热层进行图形化处理的步骤。

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