[发明专利]石墨烯实现GaN基HEMT高效散热的倒装结构及方法有效

专利信息
申请号: 201810495597.X 申请日: 2018-05-22
公开(公告)号: CN108682663B 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 赵妙;刘洪刚;张国斌;吴宗刚;常虎东;孙兵 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L23/373 分类号: H01L23/373;H01L29/20;H01L21/335;H01L29/778
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 房德权
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 石墨 实现 gan hemt 高效 散热 倒装 结构 方法
【说明书】:

发明公开一种石墨烯实现GaN基HEMT高效散热的倒装结构氮化镓基HEMT器件倒装封装结构及方法,该封装结构自下而上依次包括基板、形成于基板上的绝缘介质层、形成于绝缘介质层上的散热层、制备在散热层上的源电极焊盘、漏电极焊盘和栅电极焊盘,散热层为石墨烯散热层或碳纳米管散热层;还包括氮化镓基HEMT器件,氮化镓基HEMT器件包括外延层结构和制备在外延层结构上的源电极、漏电极和栅电极;源电极、漏电极和栅电极分别与源电极焊盘、漏电极焊盘和栅电极焊盘电连接。本发明利用石墨烯或碳纳米管作为散热层材料,结合倒装封装结构,改善了芯片与散热器的接触,提高热传导面积,大幅降低器件热阻,提升了器件的散热性能和长期工作可靠性。

技术领域

本发明涉及半导体技术,尤其涉及一种石墨烯实现GaN基HEMT高效散热的倒装结构氮化镓基HEMT器件倒装封装结构及方法。

背景技术

氮化镓材料具有良好的热学性能、电学性能和化学稳定性,其禁带宽度大,击穿电场高,热导率高,耐腐蚀性和抗辐射性强,是制备高频、高温、高压、大功率器件的理想材料。铝镓氮/氮化镓异质结存在极强的压电极化和自发极化效应,在异质结界面形成高浓度的二维电子气(2DEG),基于铝镓氮/氮化镓异质结的高电子迁移率晶体管(HEMT)在功率和射频器件方面具有广泛的应用前景。

然而,随着氮化镓功率器件功率密度的提升,电子器件在高频大功率领域应用中集成化和小型化,使得单位容积电子器件的总功率密度大幅度提高,功耗大部分转化为热能,器件的自热效应明显,器件的自热效应将导致沟道温度升高,严重影响了器件电学和热学性能的进一步提升,并且降低了器件的可靠性,进而制约了器件应用的广泛开展。例如,对于氮化镓功率器件,其结温每升高10℃,器件的寿命将降低10000小时。

发明内容

本发明主要目的在于,提供一种石墨烯实现GaN基HEMT高效散热的倒装结构氮化镓基HEMT器件倒装封装结构及方法,以降低氮化镓器件热阻,提升器件散热性能。本发明是通过如下技术方案实现的:

一种石墨烯实现GaN基HEMT高效散热的倒装结构氮化镓基HEMT器件倒装封装结构,所述倒装封装结构自下而上依次包括基板、形成于所述基板上的绝缘介质层、形成于所述绝缘介质层上的散热层、制备在所述散热层上的源电极焊盘、漏电极焊盘和栅电极焊盘,所述散热层为石墨烯散热层或碳纳米管散热层;

所述倒装封装结构还包括氮化镓基HEMT器件,所述氮化镓基HEMT器件包括外延层结构和制备在所述外延层结构上的源电极、漏电极和栅电极;

所述源电极、漏电极和栅电极分别与所述源电极焊盘、漏电极焊盘和栅电极焊盘电连接。

进一步地,所述外延层结构包括衬底、形成于所述衬底上的氮化镓高阻缓冲层、形成于所述氮化镓高阻缓冲层上的氮化镓高电子迁移率层、形成于所述氮化镓高电子迁移率层上的铝镓氮势垒层,以及形成于所述铝镓氮势垒层上的钝化层;所述源电极、漏电极和栅电极制备在所述铝镓氮势垒层上。

进一步地,所述衬底为碳化硅,蓝宝石或者硅。

进一步地,所述石墨烯散热层为图形化的石墨烯散热层。

进一步地,所述基板为氮化铝或三氧化二铝。

进一步地,所述绝缘介质层为氮化硼。

进一步地,所述电连接为通过焊球焊接。

进一步地,所述源电极为Ti/Al/Ni/Au金属,所述漏电极为Ti/Al/Ni/Au金属,所述栅电极为Ni/Au金属。

一种如上所述的任意一种石墨烯实现GaN基HEMT高效散热的倒装结构氮化镓基HEMT器件倒装封装结构的制备方法,包括如下步骤:

制备氮化镓基HEMT器件,所述氮化镓基HEMT器件包括外延层结构和制备在所述外延层结构上的源电极、漏电极和栅电极;

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