[发明专利]一种炉内新增热源的PECVD反应炉及其控制方法

说明书

本发明公开了一种炉内新增热源的PECVD反应炉及其控制方法，所述反应炉包括管状的炉体（1）、分别设于炉体两端的端盖（2）和炉门（3）、围绕在炉体外壁上的炉外加热装置、置于炉体腔内的炉内加热装置、以及控制炉外加热装置和炉内加热装置的温控装置；与现有技术相比，本发明在反应炉的内外设有两套热源，使反应炉内升温迅速，缩短了升温等待时间，加快了工艺进程，提高了产能；同时对反应炉中心进行了温度补偿，改善了工艺环境。

技术领域

本发明涉及太阳能电池片制造设备，尤其涉及一种在反应炉内增加新热源的PECVD反应炉及其控制方法。

背景技术

太阳能作为人类取之不尽用之不竭的可再生能源，其特有的充分清洁性，绝对安全性，相对的广泛性，在长期的能源战略中具有重要的影响地位。在光伏应用中，源硅片通过特殊设备进行工艺制作后就变成了可将太阳能直接转换成电能的太阳能电池片，其中在硅片表面加镀减反射膜是太阳能电池制造过程中非常重要的一环，PECVD反应炉是镀减反射膜的主要设备，其工作原理是利用等离子增强化学气相沉积法进行减反射膜制作。而设备稳定的温度控制对制作减反射膜的质量及设备产能起到决定性影响。

PECVD设备制作减反射膜的基本流程是：将待反应的硅片及载具（石墨舟）放入反应腔，待环境温度达到设定值，进行减反射膜制作，将制作好减反射膜的硅片及载具送出反应腔，之后再将另一组未反应的硅片及载具放入反应腔进行新一轮的制作。现有PECVD设备是通过炉丝加热方式，将反应腔内的硅片载具（石墨舟）及硅片进行预热达到温度设定值后进行工艺的。在完成一次工艺后，进行新一轮工艺时，由于要打开反应腔（导致热量外溢）及放入新的冷源（待工艺石墨舟及硅片）所以要想让反应腔内温度重新达到设定值，就需要等待较长时间13~15min，整个工艺时间一般都控制在32min以内，因此整个回温时间严重制约设备的生产效率。

为提升PECVD反应炉产能，完成不同工艺的温度要求，业内亟需开发一种能缩短PECVD反应炉工艺周期的新方法。

发明内容

本发明是要解决现有技术加热缓慢，时间长的问题，提出一种PECVD反应炉内新增热源促使设备快速回温的方法。

为解决上述技术问题，本发明提出的技术方案是在PECVD反应炉内新增热源，其体现可视为一种炉内新增热源的PECVD反应炉：包括管状的炉体、分别设于炉体两端的端盖和炉门、围绕在炉体外壁上的炉外加热装置、置于炉体腔内的炉内加热装置、以及控制炉外加热装置和炉内加热装置的温控装置。

所述炉内加热装置可以为红外加热管。

所述红外加热管为长条状，由所述端盖处伸入炉体腔内，红外加热管与端盖之间设有密封构件，红外加热管与所述炉体内壁之间设有支撑装置。

所述红外加热管至少有一条、并且与所述炉体的轴线平行，所述红外加热管安装在炉体腔内的底部、顶部、侧部中的一处或多处。

所述炉门处设有检测炉门是否开启的检测装置，该检测装置连接所述温控装置。

所述炉内加热装置也可以为电炉丝，电炉丝缠绕在所述炉体腔内侧壁上。