[发明专利]一种圆片间纸基再布线方法有效

专利信息
申请号: 201810503374.3 申请日: 2018-05-23
公开(公告)号: CN108831840B 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 朱智源;夏克泉;徐志伟 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60
代理公司: 33200 杭州求是专利事务所有限公司 代理人: 郑海峰<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 介质层 纸基 导电填料 牺牲层 再布线 淀积 圆片 电镀金属 金属焊盘 纳米银浆 常规的 金属层 上开口 微加工 微波炉 硅片 光刻 焊盘 焊球 溅射 开孔 铅笔 贴装 涂抹 植入 填充 开口 图案 加工
【权利要求书】:

1.一种圆片间纸基再布线方法,其特征在于包括如下步骤:

1)在硅片上淀积介质层,在介质层上开口;

2)介质层开口电镀金属焊盘;

3)用水溶性铅笔在纸上涂抹再布线图案得到纸基牺牲层,然后贴装到带有金属焊盘的介质层上;

4)再次淀积介质层,并在得到的介质层上开口;

5) 利用微波摧毁纸上涂抹有再布线图案的部分,并且在摧毁部分填充导电填料;

6)在步骤4)得到的开口处植入焊球。

2.根据权利要求1所述的圆片间纸基再布线方法,其特征在于所述的步骤5)的导电填料为纳米银浆。

3.根据权利要求1所述的圆片间纸基再布线方法,其特征在于所述的步骤1)的介质层为二氧化硅介质层,厚度为0.8-1.2μm。

4.根据权利要求1所述的圆片间纸基再布线方法,其特征在于所述的步骤1)和步骤4)中的开口方式均为采用深刻蚀的方式刻蚀出开口作为金属焊盘窗口。

5.根据权利要求1所述的圆片间纸基再布线方法,其特征在于所述的步骤4)的介质层为二氧化硅介质层,厚度为0.5μm。

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