[发明专利]一种冗余图形添加方法在审

专利信息
申请号: 201810504050.1 申请日: 2018-05-23
公开(公告)号: CN108763723A 公开(公告)日: 2018-11-06
发明(设计)人: 姜立维;魏芳;张旭升 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 智云
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 冗余图形 切割 产品良率 放大处理 密度梯度 原始图形 预定义 偏移 填充
【权利要求书】:

1.一种冗余图形添加方法,其特征在于,所述冗余图形添加方法,包括:

执行步骤S1:预定义冗余图形大小、间距,以及偏移;

执行步骤S2:计算填充区域;

执行步骤S3:冗余图形添加;

执行步骤S4:将添加冗余图形后的版图按照预设窗口m×n大小进行切割;

执行步骤S5:计算各切割窗口内冗余图形密度;

执行步骤S6:计算各切割窗口内冗余图形和原始图形的图形密度和与密度目标值之间的差值;

执行步骤S7:以所述各切割窗口内冗余图形和原始图形的图形密度和与密度目标值之间的差值为冗余图形补偿值,计算各切割窗口冗余图形密度改变量,进而获得冗余图形的缩小或放大之改变比率;

执行步骤S8:对各切割窗口内添加的冗余图形按照所述冗余图形之改变比率进行缩小或者放大处理。

2.如权利要求1所述冗余图形添加方法,其特征在于,所述预定义之冗余图形的大小、间隔以图形密度目标值为基准进行预定义,且其值均介于设计规则中规定的最大值和最小值之间。

3.如权利要求1所述冗余图形添加方法,其特征在于,所述m×n大小之预设窗口为冗余图形处理的基本单元窗口,0<m<W,0<n<H,W为版图宽度,H为版图高度。

4.如权利要求1所述冗余图形添加方法,其特征在于,当切割窗口内的冗余图形和原始图形之图形密度和大于密度目标值时,对各切割窗口内的预添加冗余图形按照改变比率进行缩小处理。

5.如权利要求1所述冗余图形添加方法,其特征在于,当切割窗口内的冗余图形和原始图形之图形密度和小于密度目标值时,对各切割窗口内的预添加冗余图形按照改变比率进行放大处理。

6.如权利要求1所述冗余图形添加方法,其特征在于,当切割窗口内的冗余图形和原始图形之图形密度和等于密度目标值时,对各切割窗口内的预添加冗余图形不作处理,保持各切割窗口内的预添加冗余图形不变。

7.如权利要求1所述冗余图形添加方法,其特征在于,当冗余图形的补偿值超出设计规则中规定的最大允许范围时,则冗余图形的放大或缩小比率依据设计规则中规定的最大允许范围计算得出。

8.如权利要求1所述冗余图形添加方法,其特征在于,当冗余图形的补偿值小于或等于设计规则中规定的最大允许范围时,则冗余图形的放大或缩小比率依据补偿值计算得出。

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