[发明专利]传送手、传送装置、光刻装置、物品的制造方法以及保持机构

说明书

本发明提供了一种用于保持被传送物体的传送手，该传送手包括：基部；垫，所述垫构造成吸附被传送物体；以及第一弹性部件，所述第一弹性部件固定于所述基部并构造成支撑所述垫，其中，所述第一弹性部件包括三个或更多支撑单元，每个支撑单元构造成支撑所述垫，且所述第一弹性部件构造成使得沿竖直方向的刚性低于沿水平方向的刚性，从而使得所述垫顺从被传送物体的形状。还提供给了一种传送装置、一种光刻装置、一种物品的制造方法以及一种保持机构。

技术领域

本发明涉及一种传送手、一种传送装置、一种光刻装置、一种物品的制造方法以及一种保持机构。

背景技术

在基板(例如用于半导体装置制造的晶片或用于液晶显示装置制造的玻璃板)为被传送物体的传送装置中，通常被传送物体由具有吸附垫的传送手来吸附(保持)并进行传送。不过，当被传送物体中发生翘曲或变形时，被传送物体的表面(目标吸附表面)和吸附垫的吸附表面不匹配，因此不能进行良好的吸附。因此，在日本专利No.5929947和日本专利公开No.2016-157822中提出了一种传送手，其中，吸附垫由弹性部件支撑，且当使得吸附垫的吸附表面采取被传送物体的表面形状时，通过布置在吸附垫下面的弹性部件来形成真空。

近年来，在半导体曝光处理中需要传送其中芯片已经在树脂上再构造的基板(再构造基板)。在再构造基板中，基板的翘曲倾向于比普通基板(硅晶片)更大。而且，在再构造基板中，翘曲形状可能根据基板的周边位置而不同，且翘曲方向可以是相对于基板表面的纵向和横向两个方向。

在日本专利No.5929947和日本专利公开No.2016-157822公开的技术中，用于使得吸附垫的吸附表面采取被传送物体的表面形状所需的力(刚性)根据用于支撑吸附垫的弹性部件的布置方向而变化。因此，在被传送物体以复杂方式翘曲的情况下，弹性部件沿特定方向的变形量不充分，被传送物体的表面与吸附垫的吸附表面不匹配，不能进行良好的吸附。另外，当为了增加弹性部件沿特定方向的变形量而降低它的刚性时，沿传送方向的刚性变低，因此不能高定位精度地保持被传送物体。

发明内容

本发明提供了一种有利于高定位精度地保持被传送物体的传送手。

根据本发明的第一方面，提供了一种用于保持被传送物体的传送手，该传送手包括：基部；垫，所述垫构造成吸附被传送物体；以及第一弹性部件，所述第一弹性部件固定于所述基部并构造成支撑所述垫，其中，所述第一弹性部件包括三个或更多支撑单元，每个支撑单元构造成支撑所述垫，且所述第一弹性部件构造成使得沿竖直方向的刚性低于沿水平方向的刚性，从而使得所述垫顺从被传送物体的形状。

根据本发明的第二方面，提供了一种用于传送被传送物体的传送装置，该传送装置包括：传送手，所述传送手构造成保持被传送物体；臂部分，所述臂部分构造成支撑传送手；以及驱动单元，所述驱动单元构造成驱动臂部分，其中，所述传送手包括：基部；垫，所述垫构造成吸附被传送物体；以及第一弹性部件，所述第一弹性部件固定于所述基部并构造成支撑所述垫，其中，所述第一弹性部件包括三个或更多支撑单元，每个支撑单元构造成支撑所述垫，且所述第一弹性部件构造成使得沿竖直方向的刚性低于沿水平方向的刚性，从而使得所述垫顺从被传送物体的形状。

根据本发明的第三方面，提供了一种用于在基板上形成图案的光刻装置，所述光刻装置包括：保持单元，所述保持单元构造成保持基板；以及传送装置，所述传送装置构造成将作为被传送物体的基板传送给所述保持单元，其中，所述传送装置包括：传送手，所述传送手构造成保持被传送物体；臂部分，所述臂部分构造成支撑传送手；以及驱动单元，所述驱动单元构造成驱动臂部分，其中，所述传送手包括：基部；垫，所述垫构造成吸附被传送物体；以及第一弹性部件，所述第一弹性部件固定于所述基部并构造成支撑所述垫，其中，所述第一弹性部件包括三个或更多支撑单元，每个支撑单元构造成支撑所述垫，且所述第一弹性部件构造成使得沿竖直方向的刚性低于沿水平方向的刚性，从而使得所述垫顺从被传送物体的形状。